GaN-on-Si Epi Wafer Chuck

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck é parte integrante da fabricação de semicondutores, permitindo suporte estável e confiável durante processos críticos, como deposição, gravação e litografia. O Epi Wafer Chuck GaN-on-Si garante uma dissipação de calor eficiente, mantendo a distribuição uniforme da temperatura em todo o wafer para evitar gradientes térmicos que podem causar defeitos. O Epi Wafer Chuck GaN-on-Si está disponível em vários tamanhos e configurações para acomodar diferentes dimensões de wafer e requisitos de processamento, oferecendo flexibilidade para diversas necessidades de fabricação de semicondutores.

Aplicações:

Crescimento epitaxial: GaN-on-Si Epi Wafer Chuck fornece uma plataforma estável para o crescimento de camadas de GaN de alta qualidade em substratos de silício, GaN-on-Si Epi Wafer Chuck é essencial para dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos de alto desempenho.

Gravura e Deposição: Facilita a remoção ou deposição uniforme de material, fundamental para alcançar as propriedades estruturais e elétricas desejadas dos dispositivos.

O Epi Wafer Chuck GaN-on-Si é uma ferramenta indispensável para fabricantes de semicondutores que desejam produzir dispositivos baseados em GaN de última geração, oferecendo desempenho incomparável em precisão, estabilidade e durabilidade.