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Semicorex é um fabricante e fornecedor profissional na China. Nossa fábrica fornece susceptor de barril, susceptor mocvd, barco wafer, etc. Design extremo, matérias-primas de qualidade, alto desempenho e preço competitivo são o que todo cliente deseja, e isso também é o que podemos oferecer. Tomamos alta qualidade, preço razoável e serviço perfeito.
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Campo Térmico de Grafite

Campo Térmico de Grafite

O Campo Térmico de Grafite Semicorex combina ciência de materiais de ponta com um profundo conhecimento dos processos de crescimento de cristais, oferecendo uma solução inovadora que capacita a indústria de semicondutores a alcançar novos níveis de desempenho, eficiência e economia.**

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LPE SiC-Epi Meia Lua

LPE SiC-Epi Meia Lua

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon é um ativo indispensável no mundo da epitaxia, fornecendo uma solução robusta para os desafios impostos por altas temperaturas, gases reativos e rigorosos requisitos de pureza.**

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Cobertura de revestimento CVD TaC

Cobertura de revestimento CVD TaC

A cobertura de revestimento Semicorex CVD TaC tem se tornado uma tecnologia crítica em ambientes exigentes dentro de reatores epitaxiais, caracterizados por altas temperaturas, gases reativos e requisitos rigorosos de pureza, que exigem materiais robustos para garantir o crescimento consistente de cristais e evitar reações indesejadas.**

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Ferramentas de extração de silício único de grafite

Ferramentas de extração de silício único de grafite

As ferramentas de extração de silício único de grafite Semicorex surgem como heróis anônimos no cadinho ardente dos fornos de crescimento de cristal, onde as temperaturas aumentam e a precisão reina suprema. Suas propriedades notáveis, aprimoradas por meio de fabricação inovadora, os tornam essenciais para a existência de silício monocristalino impecável.**

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Anel guia de revestimento TaC

Anel guia de revestimento TaC

O anel guia de revestimento Semicorex TaC serve como uma parte fundamental dentro do equipamento de deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD), garantindo a entrega precisa e estável de gases precursores durante o processo de crescimento epitaxial. O anel guia de revestimento TaC representa uma série de propriedades que o tornam ideal para suportar as condições extremas encontradas na câmara do reator MOCVD.**

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Segmento de cobertura SiC MOCVD

Segmento de cobertura SiC MOCVD

O compromisso da Semicorex com a qualidade e inovação é evidente no segmento de cobertura SiC MOCVD. Ao permitir epitaxia de SiC confiável, eficiente e de alta qualidade, ele desempenha um papel vital no avanço dos recursos dos dispositivos semicondutores de próxima geração.**

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