Susceptores de bolacha revestidos com sic

Os susceptores de wafer revestidos com Semicorex SiC são projetados para atender aos requisitos de prementes para a fabricação de semicondutores avançados, especialmente em sistemas de deposição de filmes ultrafinos sem pressionados. Designado com precisão, eles oferecem desempenho térmico superior, durabilidade química e estabilidade mecânica-essencial para ambientes de próxima geração para processamento de filmes finos.

Em técnicas de deposição que não empregam pressão, como a deposição da camada atômica (ALD), a deposição de vapor químico (DCV) e a deposição física de vapor (PVD) para filmes muito finos, os principais requisitos são uma distribuição uniforme de temperatura e estabilidade da superfície. A singularidade de nosso projeto de susceptores reside no fato de que ele incorpora um substrato poroso de alta pureza, que permite que ele trabalhe efetivamente sob condições de vácuo ou próximo ao vacuum, reduzindo assim o estresse térmico e fornecendo transferência de energia uniforme sobre a superfície da wafer.

A estrutura de vários buracos é uma inovação essencial: ajuda a reduzir a massa térmica, promove a distribuição uniforme do fluxo de gás e mitiga as flutuações de pressão que, de outra forma, poderiam comprometer a uniformidade da deposição. Essa estrutura também contribui para os ciclos mais rápidos de aceleração e recarga térmica, aumentando a taxa de transferência geral e o controle de processos.

Oferecemos uma variedade de tamanhos de susceptores, geometrias e níveis de porosidade para corresponder a vários projetos de sistemas de deposição e dimensões de wafer. A natureza modular do nosso processo de fabricação permite que a personalização atenda aos requisitos térmicos, mecânicos e químicos específicos do processo de filme fino do cliente.

Susceptador de bolacha revestido com Semicorex SiC é uma solução de alto desempenho, adaptada aos desafios únicos da deposição de filmes ultrafinos sem pressionados. Sua combinação de projeto estrutural poroso e revestimento robusto de SiC fornece suporte ideal para processos de fabricação de semicondutores de alta precisão, permitindo melhor qualidade do filme, rendimentos mais altos e custos operacionais mais baixos.