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Placa portadora de gravação PSS para semicondutores

A placa portadora de gravura PSS Semicorex para semicondutores é especialmente projetada para ambientes de limpeza química severa e de alta temperatura necessários para processos de crescimento epitaxial e manuseio de wafer. Nossa placa portadora de gravação PSS ultrapura para semicondutores foi projetada para suportar wafers durante as fases de deposição de filmes finos, como MOCVD e susceptores de epitaxia, panqueca ou plataformas de satélite. Nosso suporte revestido de SiC tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Oferecemos soluções econômicas para nossos clientes e nossos produtos cobrem muitos mercados europeus e americanos. A Semicorex espera ser seu parceiro de longo prazo na China.

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Porta-gravura PSS revestido com SiC

Os transportadores de wafer usados no crescimento epixial e no processamento de manuseio de wafer devem suportar altas temperaturas e limpeza química severa. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier projetado especificamente para essas exigentes aplicações de equipamentos de epitaxia. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem muitos dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Susceptor de barril revestido de SiC para crescimento epitaxial LPE

O susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento epitaxial LPE é um produto de alto desempenho projetado para fornecer desempenho consistente e confiável por um período prolongado. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação o tornam a escolha ideal para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade em chips de wafer. Sua customização e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Barrel Susceptor Epi System para LPE Epitaxy

Sistema Epi Susceptor Barrel Semicorex para LPE Epitaxy é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação o tornam a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua relação custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Sistema de Reator de Epitaxia de Fase Líquida (LPE)

O Sistema de Reator de Epitaxia de Fase Líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Deposição Epitaxial CVD em Reator Barril

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação o tornam a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.

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