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Porta-gravura PSS revestido com SiC

Os transportadores de wafer usados no crescimento epixial e no processamento de manuseio de wafer devem suportar altas temperaturas e limpeza química severa. Transportador de gravação PSS revestido com SiC Semicorex projetado especificamente para essas exigentes aplicações de equipamentos de epitaxia. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem muitos mercados europeus e americanos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Susceptor de barril revestido de SiC para crescimento epitaxial de LPE

O susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento epitaxial de LPE é um produto de alto desempenho projetado para fornecer desempenho consistente e confiável por um período prolongado. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade em chips de wafer. Sua customização e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Sistema Epi receptor de barril

Semicorex Barrel Susceptor Epi System é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Seu custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE)

O sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.

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Deposição epitaxial de CVD em reator de barril

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.

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Deposição Epitaxial de Silício em Reator Barril

Se você precisa de um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o reator de deposição epitaxial de silício Semicorex em barril é a escolha ideal. Seu revestimento de SiC de alta pureza e condutividade térmica excepcional fornecem proteção superior e propriedades de distribuição de calor, tornando-o a escolha certa para desempenho confiável e consistente mesmo nos ambientes mais desafiadores.

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