Aquecedor de Processo de Wafer

O Aquecedor de Processo de Wafer Semicorex é feito de grafite com revestimento de carboneto de silício (SiC), o revestimento é aplicado por um método CVD a graus específicos de grafite de alta densidade, para que possa operar no forno de alta temperatura com mais de 3000 ° C em uma atmosfera inerte, 2200°C no vácuo.
As propriedades especiais e a baixa massa do material Wafer Process Heater permitem taxas de aquecimento rápidas, distribuição uniforme de temperatura e excelente precisão no controle. Em comparação com outros materiais, a superfície do carboneto de silício permanece plana devido à sua baixa expansão térmica, mesmo quando operada com mudanças rápidas de temperatura. As placas quentes são muito adequadas para processos exigentes em sistemas de processamento de semicondutores.
Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nosso Aquecedor de Processo Wafer tem uma vantagem de preço e é exportado para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de qualidade consistente e atendimento excepcional ao cliente.

Parâmetros do Aquecedor de Processo de Wafer

Características do Aquecedor de Processo Wafer

- Revestimentos CVD SiC para melhorar a vida útil.
- Resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, longa vida útil, pode melhorar a qualidade e o rendimento do wafer.
- Possui coeficiente de expansão térmica extremamente baixo, resistência a altas temperaturas, alta resistência ao desgaste, bom isolamento, boa estabilidade química e penetração de luz visível quase roxa (vermelha).

Podemos fornecer anti-oxidação e cadinho de grafite de longa duração, molde de grafite e todas as partes do aquecedor de grafite.