Semicorex é um fabricante e fornecedor em grande escala de Susceptor de grafite revestido com carboneto de silício na China. Nós nos concentramos em indústrias de semicondutores, como camadas de carboneto de silício e semicondutores epitaxiais. Nosso SiC End Effector tem uma boa vantagem de preço e cobre muitos dos mercados europeus e americanos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
O Semicorex SiC End Effector é feito de grafite com revestimento de carboneto de silício (SiC), o revestimento é aplicado por um método CVD em graus específicos de grafite de alta densidade, para que possa operar no forno de alta temperatura com mais de 3000 ° C em uma atmosfera inerte, 2200°C em vácuo.
Nosso SiC End Effector foi projetado para atingir o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo uniformidade do perfil térmico. Isto ajuda a evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo um crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer.
Contate-nos hoje para saber mais sobre nosso SiC End Effector.
Parâmetros do SiC End Effector
Principais especificações do revestimento CVD-SIC |
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Propriedades SiC-CVD |
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Estrutura Cristalina |
Fase β do FCC |
|
Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamanho do grão |
μm |
2~10 |
Pureza Química |
% |
99.99995 |
Capacidade de calor |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
Força Felexural |
MPa (TR 4 pontos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) |
430 |
Expansão Térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
Recursos do SiC End Effector
-Evite descascar e garanta o revestimento em toda a superfície
Resistência à oxidação em altas temperaturas: Estável em altas temperaturas de até 1600°C
Alta pureza: feita por deposição química de vapor CVD sob condições de cloração de alta temperatura.
Resistência à corrosão: alta dureza, superfície densa e partículas finas.
Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
- Obtenha o melhor padrão de fluxo de gás laminar
- Garantir uniformidade do perfil térmico
- Evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas