Barco Pedestal de Silício

Semicorex Silicon Pedestal Boat é um transportador de wafer ultralimpo que foi projetado com alta pureza e precisão para suportar processos de semicondutores de alta temperatura, como oxidação, difusão e LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition). Este transportador de wafer é feito de 9N (99,9999999%)silício de alta purezapara garantir limpeza excepcional, coeficiente térmico de estabilidade de expansão e precisão mecânica para suporte de wafer e controle de processo consistente em ambientes ultralimpos.

À medida que as geometrias dos dispositivos semicondutores continuam a diminuir, a necessidade de componentes de manuseio de wafers ultralimpos e termicamente compatíveis nunca foi tão procurada. O barco com pedestal de silicone atende a essas demandas com alta precisão dimensional e pureza incomparável para ser usado em sistemas avançados de fornos que operam entre 1100°C e 1250°C.

A estrutura do barco de silicone pode ser personalizada para atender às necessidades do cliente, incluindo formato da barra de ranhura, comprimento do dente da ranhura, formato, ângulo de inclinação e capacidade total de carga do wafer. Os barcos de silício de alta temperatura podem efetivamente reduzir os danos de contato às pastilhas de silício, melhorando o rendimento do processo. Seu design de "torres antiderrapantes" de alta temperatura suporta wafers apenas na ponta do dente de suporte. Comparado ao carboneto de silício, o silício é relativamente menos duro, reduzindo os danos mecânicos aos wafers, melhorando assim a qualidade da rede e reduzindo efetivamente os custos de produção.

silício monocristalino ou policristalinosilício monocristalino ou policristalinopara remover riscos de contaminação associados a materiais sem silício. A plataforma compartilha a mesma composição química dos wafers usados ​​ativamente, o que minimiza reações indesejadas ou difusão de íons durante processos de alta temperatura. A homogeneidade do material reduz substancialmente a identidade física das partículas e impurezas metálicas, proporcionando alta qualidade consistente do wafer e alto rendimento do dispositivo através de ciclos de produção repetidos.

O principal benefício do barco pedestal de silício são suas propriedades mecânicas e térmicas otimizadas. A dureza do silício em comparação com o SiC ou o quartzo ajudará a reduzir a geração de microriscos e partículas devido à vibração ou movimento do wafer durante a expansão aquecida. Isto é especialmente verdadeiro para wafers sensíveis à parte traseira, onde a integridade da superfície do wafer é crítica para o rendimento e o desempenho do dispositivo.

O principal benefício do barco pedestal de silício são suas propriedades mecânicas e térmicas otimizadas. A dureza do silício em comparação com o SiC ou o quartzo ajudará a reduzir a geração de microriscos e partículas devido à vibração ou movimento do wafer durante a expansão aquecida. Isto é especialmente verdadeiro para wafers sensíveis à parte traseira, onde a integridade da superfície do wafer é crítica para o rendimento e o desempenho do dispositivo.

O barco pedestal possui boa condutividade térmica e baixo coeficiente de expansão térmica que proporciona características de transferência de calor, mantendo a forma e a solidez estrutural com múltiplos ciclos de aquecimento e resfriamento. O design robusto também proporciona uma vida longa com deformação mínima em condições extremas do forno.

A Semicorex fornece projetos personalizados para uma variedade de configurações de equipamentos, incluindo diâmetro do wafer, contagem de slots, altura do pedestal e variações de geometria. Cada produto é inspecionado quanto à pureza, medido dimensionalmente e testado quanto à condutividade térmica, tudo para atender aos mais altos padrões no processo de fabricação de semicondutores.

O barco com pedestal de silício é compatível com processos de oxidação e difusão, bem como com aplicações de LPCVD e recozimento que exigem uniformidade de temperatura e controle de contaminação insuperáveis. O barco com pedestal de silício é compatível com outros componentes do forno de silício, como tubo injetor, tubo de revestimento e transportador de wafer, mantendo a correspondência térmica e de material em todo o sistema de processamento.