Injetor de Silício

O injetor de silício Semicorex é um componente de pureza ultra-alta projetado para a entrega precisa de gás em sistemas de deposição química de vapor de baixa pressão (LPCVD) para deposição de polissilício e filmes finos. Construído a partir de 9N (99,9999999%)silício de alta pureza, este injetor tubular fino proporciona limpeza superior, compatibilidade com produtos químicos e estabilidade térmica em condições extremas de processo.

À medida que a fabricação de semicondutores continua a evoluir para níveis mais elevados de integração e controle mais rígido de contaminação, cada componente de fornecimento de gás na câmara de deposição também deverá atender a padrões mais elevados do que antes. O injetor de silício Semicorex foi desenvolvido especificamente para esses tipos de requisitos - fornecendo materiais gasosos de maneira estável e uniforme em toda a câmara de reação, sem introduzir contaminação que afetaria negativamente a qualidade do filme ou o rendimento do wafer.

O injetor é fabricado a partir de silício monocristalino ou policristalino, dependendo dos requisitos do processo, e o material é projetado para conter poucas impurezas metálicas, particuladas e iônicas. Isto proporciona compatibilidade com condições LPCVD ultralimpas, onde mesmo vestígios de contaminação podem induzir um defeito no filme ou falha de um dispositivo. O uso de silício como material de base também reduz a incompatibilidade de material entre o injetor e os componentes de silício da câmara, o que reduz significativamente os riscos de geração de partículas ou reações químicas durante o uso e operação em alta temperatura.

A estrutura tubular dedicada do injetor de silício permite uma distribuição controlada e igual de gás sobre uma carga uniforme de wafer. Os orifícios microprojetados e a superfície interna lisa garantem taxas de fluxo reproduzíveis, juntamente com a dinâmica laminar do gás, que são essenciais para uma espessura de filme consistente e taxas de deposição estáveis ​​no forno. Quer se trate de silano (SiH₄), diclorossilano (SiH₂Cl₂) ou outros gases reativos, o injetor oferece desempenho confiável e precisão necessária para o crescimento de filme de polissilício de boa qualidade.

Devido à excelente estabilidade térmica, o injetor de silício Semicorex pode suportar temperaturas de até 1250 °C e pode ser controlado sem medo de deformação, rachaduras ou empenamento durante vários ciclos de LPCVD de alta temperatura. Além disso, sua alta resistência à oxidação e inércia química proporcionam longos funcionamentos em atmosfera oxidante, redutora ou corrosiva, ao mesmo tempo que reduz a manutenção e cria estabilidade no processo.

Devido à excelente estabilidade térmica, o injetor de silício Semicorex pode suportar temperaturas de até 1250 °C e pode ser controlado sem medo de deformação, rachaduras ou empenamento durante vários ciclos de LPCVD de alta temperatura. Além disso, sua alta resistência à oxidação e inércia química proporcionam longos funcionamentos em atmosfera oxidante, redutora ou corrosiva, ao mesmo tempo que reduz a manutenção e cria estabilidade no processo.

A Semicorex fabrica injetores de silicone sob medida, disponíveis em comprimentos, diâmetros e configurações de bico personalizados. Soluções personalizadas podem ser desenvolvidas para melhorar os padrões de dispersão de gás para geometrias de reatores únicos ou receitas de deposição. Cada injetor é inspecionado e verificado quanto à pureza para fornecer o mais alto nível de grau de semicondutorcomponentes de silício.

O Semicorex Silicon Injector fornece a precisão e a pureza exigidas na fabricação atual de semicondutores. A incorporação de silício 9N de altíssima pureza, precisão de usinagem em nível de mícron e alta estabilidade térmica e química proporciona distribuição uniforme de gás, menor geração de partículas e confiabilidade excepcional ao depositar polissilício LPCVD.