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Anéis de gravação em silicone

Anéis de gravação em silicone

Os anéis de gravação de silício Semicorex são componentes de gravação em forma de anel de precisão fabricados a partir de silício de cristal único de alta pureza. São as peças essenciais de silício utilizadas no equipamento de gravação a plasma, projetadas especialmente para criar condições ideais de gravação a plasma. Escolha Semicorex, escolha os anéis de gravação de silicone de alta qualidade.

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Descrição do produto

Os anéis de gravação de silício são os componentes essenciais dentro da câmara de gravação de plasma do equipamento de gravação CCP/ICP e são normalmente colocados ao redor do wafer semicondutor. Suas principais funções são apoiar o wafer semicondutor, manter a distribuição uniforme do plasma, proteger a borda do wafer e, assim, ajudar a criar condições operacionais ideais para o processo de gravação a plasma.


Vantagens dos anéis de gravação de silício Semicorex

1. Seleção de materiais premium

Os anéis de gravação de silício Semicorex são fabricados a partir de MCZ de alta pureza cuidadosamente selecionadosilício monocristalino, que oferece as seguintes propriedades excelentes em relação ao silício monocristalino CZ convencional.


Alta pureza: A pureza é superior a 99,9999999%, o que significa que os anéis de gravação de silício Semicorex quase não contêm impurezas. Esta pureza ultra-alta pode efetivamente evitar a interferência de impurezas dos componentes durante o processo de gravação, garantindo assim alta precisão de gravação.


Estrutura estável: O silício monocristalino MCZ apresenta uma estrutura cristalina superior com menos defeitos do que o silício monocristalino CZ convencional. Esta estrutura cristalina estável proporciona aos anéis de gravação de silício Semicorex maior resistência à corrosão por plasma e permite-lhes suportar condições operacionais severas de gravação.


Excelente uniformidade de resistividade:Anéis de gravação de silício Semicorexoferecem uniformidade de resistência excepcional com RRG <5%. Baixa resolução. (<0,02 Ω·cm), resolução média. (0,2–25 Ω·cm), alta resolução. (>100 Ω·cm). Esta excelente uniformidade de resistividade pode minimizar a distribuição irregular do plasma causada por resistividade excessivamente alta ou baixa, o que contribui para um campo elétrico ideal para gravação de plasma de alta precisão.


2. Processamento de precisão e inspeção de qualidade rigorosa

A Semicorex possui uma equipe técnica experiente que pode fornecer customização personalizada e avaliações técnicas para nossos valiosos clientes e também estabeleceu procedimentos sistemáticos de processamento e inspeção para garantir a qualidade do produto.

Serviços de personalização flexíveis: Semicorex oferece suporte à personalização com base nos desenhos do cliente, e o diâmetro máximo personalizado dos anéis de gravação de silicone pode ser de até 470 mm.

Tratamento de superfície de alto padrão: A precisão do polimento pode ser estritamente controlada dentro de Ra < 0,1 µm, e o desbaste fino atinge um acabamento superficial de Ra > 0,1 µm.

Inspeção rigorosa de qualidade: A medição dimensional, o teste de resistividade e a inspeção visual serão realizados para garantir que os anéis de gravação de silicone estejam livres de lascas, arranhões, rachaduras, manchas e outros defeitos.

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