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Placa de gravação ICP de carboneto de silício

Placa de gravação ICP de carboneto de silício

A placa de gravação ICP de carboneto de silício é um suporte de wafer indispensável fabricado em cerâmica de carboneto de silício sinterizado de alta pureza. Especialmente projetado pela Semicorex, ele serve como facilitador crucial para sistemas de gravação e deposição de plasma indutivamente acoplado (ICP) na indústria de semicondutores de ponta.

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Descrição do produto

Placa de gravação ICP de carboneto de silícioé competente em fornecer suporte estável e posicionamento preciso para wafers nas operações de gravação, evitando com eficiência reduções na precisão da gravação causadas por vibração ou deslocamento.


A placa de gravação ICP de carboneto de silício possui recursos de gerenciamento térmico. Condutividade térmica superior deCerâmica SICdá à placa de gravação ICP de carboneto de silício a capacidade de dissipar rapidamente o calor, o que ajuda a evitar o superaquecimento local da peça de trabalho e garante a uniformidade da temperatura de gravação, melhorando assim a qualidade da gravação. A cerâmica SiC tem um baixo coeficiente de expansão térmica, o que permite que a placa de gravação ICP de carboneto de silício mantenha uma boa estabilidade dimensional e reduza o deslocamento ou deformação da peça causada pela expansão térmica.


Baseando-se em suas excelentes propriedades de dureza e resistência, a placa de gravação ICP de carboneto de silício mostra a capacidade de tolerar o estresse mecânico e o impacto do plasma encontrados durante o processo de gravação com deformação ou danos mínimos. Essa capacidade melhora efetivamente o rendimento e a eficiência de produção de dispositivos semicondutores.


O ambiente operacional ICP requer limpeza no nível de semicondutores. A placa de gravação ICP de carboneto de silício da Semicorex pode atender totalmente a esse requisito, oferecendo resistência excepcional aos gases químicos (como cloro e flúor) e plasma de ambientes de gravação ICP. Este recurso significativo mantém o ambiente do processo limpo, reduzindo a quantidade de contaminantes liberados durante as operações de gravação.


A Semicorex prioriza a conveniência do usuário, oferecendo designs personalizados de placas de gravação ICP de carboneto de silício que se integram perfeitamente aos sistemas de gravação ICP existentes e são compatíveis com várias configurações. Isto permite uma transição suave, tornando-o uma solução de atualização ideal para fabricantes de equipamentos.


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