Cassete de wafer SiC

O cassete de wafer Semicorex SiC, também conhecido como wafer boat de azulejos, foi desenvolvido especificamente para operações de oxidação, difusão e recozimento em temperaturas superiores a 1200°C. Os cassetes fornecem suporte mecânico significativo, bem como alinhamento para muitos wafers de uma só vez durante o uso em forno de alta temperatura, e exibem grande estabilidade mecânica e dimensional durante o estresse térmico e posteriormente.  A demanda por materiais ultrapuros e termicamente estáveis ​​para sistemas de manuseio de wafers está aumentando à medida que os dispositivos semicondutores diminuem de tamanho e aumentam de desempenho.

O cassete é feito de material de alta purezacarboneto de silício, também existem revestimentos que podem ser aplicados para obter benefícios ainda maiores. O SiC possui excelente estabilidade ao choque térmico, corrosão e deformação dimensional.  O SiC possui dureza, inércia química e condutividade térmica únicas, tornando-o um material ideal para este ambiente de processo. O SiC, em relação às alternativas de quartzo e alumina, não diminuirá suas propriedades mecânicas e químicas em altas temperaturas de processamento, reduzindo assim o risco de contaminação e melhorando a uniformidade do processo de wafer durante os processos de fabricação.

A pureza ultra-alta do cassete wafer de SiC apresenta resistência à entrada de contaminantes metálicos ou iônicos na câmara do processo; algo que é absolutamente necessário para alta pureza para atender aos requisitos de processo para processos avançados de fabricação de semicondutores. Ao minimizar as fontes de contaminantes, os cassetes de carboneto de silício aumentarão o rendimento do wafer e a confiabilidade do dispositivo.

A tecnologia de usinagem de precisão da Semicorex permite que cada cassete seja produzido com tolerâncias restritas, passo uniforme da ranhura e alinhamento paralelo. A usinagem de precisão dos materiais permite o carregamento e descarregamento suave dos wafers, o que reduz a chance de arranhões durante o manuseio dos wafers. O espaçamento preciso entre slots permite temperatura e fluxo de ar uniformes em todos os wafers, o que promove uniformidade na oxidação e difusão, ao mesmo tempo que diminui a variabilidade do processo.

O SiC possui excelente condutividade térmica, estabilidade dimensional e fornece desempenho confiável sob repetidos ciclos térmicos. O material é estável e não deforma nem racha; sua alta rigidez mantém a integridade estrutural com alta temperatura por longos períodos de tempo, diminuindo significativamente o estresse mecânico nos wafers e limitando a probabilidade de partículas indesejadas geradas no manuseio devido ao atrito ou microvibração.

Além disso,SiCA inércia em relação aos produtos químicos protege os wafers da reação aos gases do processo (por exemplo, oxigênio, hidrogênio, amônia) normalmente envolvidos durante o processamento. Os cassetes de wafer são estáveis ​​em atmosferas oxidantes e não oxidantes e podem ser incorporados ao fluxo de trabalho do forno em vários processos, como oxidação, difusão, LPCVD e recozimento.

Para atender aos requisitos específicos do processo, a Semicorex oferece cassetes wafer SiC personalizados em vários tamanhos, contagens de slots e configurações. Cada unidade passa por rigorosa inspeção de qualidade e tratamento de superfície para garantir suavidade, limpeza e precisão dimensional. O polimento de superfície opcional reduz ainda mais a geração de partículas e aumenta a compatibilidade com sistemas automatizados de manuseio de wafers.