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Barcos verticais sic
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Barcos verticais sic

Os barcos verticais semicorex sic são portador de wafer de alto desempenho projetado para uso em processos de forno vertical, oferecendo estabilidade, limpeza e durabilidade excepcionais. Escolha Semicorex para obter qualidade intransigente, fabricação de precisão e confiabilidade comprovada no processamento térmico de semicondutores.*

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Descrição do produto

Os barcos verticais semicorex sic são portadores de bolacha projetados, projetados e fabricados para fornecer a estabilidade térmica, mecânica e química mais alta para o processamento de semicondutores do forno vertical. Construído de alta purezacarboneto de silícioAcreditamos que eles são o melhor equilíbrio de força, durabilidade e limpeza para o processamento térmico de wafer muito avançado, observado como oxidação, difusão, LPCVD e recozimento em sistemas de forno vertical.


Os ambientes de processamento de forno vertical exigem um sistema de suporte a wafer que possa suportar exposições repetidas a alta temperatura, geralmente excedendo 1.200 ° C, e permanecem dimenas-sônicas estáveis ​​sem problemas de contaminação. Os barcos verticais do SIC se destacam em sua robustez nessas situações devido às propriedades mecânicas e térmicas intrínsecas do carboneto recristalizado ou de silício de CVD. Seu coeficiente de expansão térmica extremamente baixo garante que a distorção ou distorção mínima devido ao ciclo térmico rápido. Além disso, a alta condutividade térmica oferece a maior homogeneidade de temperatura local em todas as bolachas, o que é fundamental para a consistência de wafer-to-wafer na espessura da camada, perfis de doping e desempenho elétrico; aspectos importantes da fabricação de alto volume na indústria de semicondutores.


Comparados aos barcos tradicionais de quartzo, os barcos verticais do SIC oferecem força mecânica superior e vida útil prolongada. O quartzo tende a se tornar quebradiço e desitrificar com o tempo, particularmente em químicas agressivas do forno, levando a custos de reposição mais altos e possíveis interrupções de produção. Por outro lado, o carboneto de silício mantém sua integridade mesmo após a exposição prolongada a gases corrosivos, como cloro, HCl ou amônia, que são comuns em vários processos de difusão e LPCVD. Seu desgaste excepcional e resistência a oxidação reduz bastante a geração de partículas, ajudando a proteger as superfícies de wafer da contaminação e formação de defeitos.


Os barcos verticais do SIC também oferecem um benefício significativo em termos de processamento ultra limpo. O material SiC de alta pureza é processado sob diligência estrita para reduzir metais de contaminação identificáveis ​​que podem interferir nas características operacionais dos dispositivos semicondutores. As superfícies de barco vertical do SIC estão bem acabadas com recursos de ângulo reto que minimizam a chance de derramar micro-partículas. As superfícies SiC são quimicamente inertes e não reagem com gases de processo e, portanto, são menos propensas à contaminação. A esse respeito, os barcos verticais do SIC são adequados para a extremidade frontal da linha (FEOL) e para as operações de processamento de wafer de parte traseira da linha (BEOL).


Os barcos verticais do SIC também oferecem flexibilidade de design. Cada barco vertical pode ser específico do design para acomodar vários diâmetros de wafer (150 mm, 200 mm ou bolachas de 300 mm) e o número e o espaçamento do slot podem ser utilizados para atender aos requisitos de processo. A usinagem de precisão e o controle dimensional permitem o alinhamento adequado da wafer e o suporte a wafer, minimizando a probabilidade de micro-arranhões ou trincas de tensão durante o carregamento, processamento e descarregamento. Além disso, se a uniformidade superior da temperatura e / ou a menor massa térmica for necessária para um processo específico, geometrias otimizadas e projetos de slot podem ser incorporados em configurações de barco vertical SiC, sem sacrificar propriedades mecânicas.


Outra vantagem é a manutenção e a eficiência operacional. A construção rígida deSicOs barcos verticais reduzem o tempo e a frequência de substituição, minimizando assim o tempo de inatividade ou o custo de propriedade. A resistência ao choque térmico do SiC permite ciclos mais curtos de aquecimento e resfriamento para proporcionar maior taxa de transferência nas linhas de produção. A manutenção ou limpeza de barcos verticais SiC também é muito simples; O material pode suportar os processos de limpeza úmida ou a seco mais convencionais comuns em FABs semicondutores, como limpeza química com ácidos e alta temperatura.


Nesta era moderna de fabricação sofisticada de semicondutores, onde a melhoria do rendimento, o controle de contaminação e a estabilidade no processo têm toda a importância, os barcos verticais do SIC oferecem uma verdadeira vantagem tecnológica. Eles lidam bem com os desafios físicos e químicos das aplicações de forno vertical e contribuem para a otimização geral do processo, fornecendo integridade de wafer, resultados consistentes e vida útil mais longa dos equipamentos.


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