Mandril de vácuo SiC

O Semicorex SiC Vacuum Chuck representa o auge da engenharia de precisão sob medida para a exigente indústria de semicondutores. Fabricado a partir de substratos de grafite e aprimorado por meio de técnicas de última geração de Deposição Química de Vapor (CVD), este dispositivo inovador integra perfeitamente as propriedades incomparáveis do revestimento de Carboneto de Silício (SiC). A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Semicorex SiC Vacuum Chuck é uma ferramenta especialmente projetada que segura wafers semicondutores durante estágios críticos de processamento com máxima estabilidade e confiabilidade. O revestimento CVD SiC do mandril SiC Vacuum oferece excepcional resistência mecânica, resistência química e estabilidade térmica, garantindo que wafers delicados sejam protegidos contra qualquer dano ou contaminação potencial.

A combinação exclusiva de grafite e revestimento de SiC do SiC Vacuum Chuck oferece alta condutividade térmica e coeficiente mínimo de expansão térmica. Isso permite uma dissipação de calor eficiente e uma distribuição uniforme de temperatura em toda a superfície do wafer. Esses recursos são essenciais para manter condições ideais de processamento e aumentar o rendimento nos processos de fabricação de semicondutores.

O mandril SiC Vacuum também é compatível com ambientes de vácuo, garantindo adesão superior entre o mandril e o wafer. Isto elimina o risco de deslizamento ou desalinhamento durante operações de alta precisão. Sua superfície não porosa e suas propriedades inertes evitam ainda qualquer liberação de gases ou contaminação por partículas, salvaguardando a pureza e a integridade do ambiente de fabricação de semicondutores.

Semicorex SiC Vacuum Chuck é uma tecnologia fundamental na fabricação de semicondutores, oferecendo desempenho e durabilidade incomparáveis para atender às crescentes demandas da indústria. Seja usada em litografia, gravação, deposição ou outros processos críticos, esta solução avançada continua a redefinir padrões de excelência no manuseio e processamento de wafers semicondutores.