SiC Fin

Semicorex SiC Fin é um componente de alto desempenho feito decerâmica de carboneto de silício, ele foi projetado para uso em sistemas de epitaxia e gravação semicondutores. Projetado como uma peça circular em forma de disco com vários furos de diferentes diâmetros, o SiC Fin é um componente crítico para padrões de fluxo de materiais e gerenciamento de exaustão de gases ou efluentes líquidos durante processamento de alta temperatura ou plasma. Devido ao seu desempenho estrutural, excelente resistência à corrosão e alta estabilidade térmica, o SiC Fin é fundamental para a fabricação avançada de semicondutores.

SiC Fin é fabricado a partir de alta purezacarboneto de silíciopó usando processos avançados de conformação e sinterização. Assim, possui excelente resistência mecânica e estabilidade em elevadas condições térmicas e químicas. As propriedades físicas únicas do carboneto de silício, como alta dureza, baixa expansão térmica e excelente inércia química, permitem que a aleta seja um componente estrutural em plasma de alta temperatura ou ambientes de gás reativo, que são característicos de EPI e processos de gravação.

A estrutura de disco do componente, completa com furos perfurados com precisão, permite fluxos controlados de gases e líquidos através das câmaras de processo. Dependendo da aplicação, os furos podem ser configurados para gerenciar o fluxo de subprodutos ou drenagem para um ambiente limpo e estável durante o processo do wafer. Em uma aplicação de epitaxia, por exemplo, o SiC Fin pode auxiliar no direcionamento de gases de processo ou fluxos de condensado, melhorando assim a uniformidade do filme e minimizando a contaminação por partículas. Em ferramentas de gravação, é eficaz para a remoção segura e eficiente de espécies reativas e subprodutos líquidos, protegendo os componentes vulneráveis ​​da câmara contra a degradação química.

Cada Fin Semicorex SiC é fabricado com tolerâncias muito restritas e polido para oferecer excelente planicidade de superfície e precisão dimensional. Essa precisão de fabricação garante desempenho confiável quando integrado em sistemas complicados e mantendo funcionalidade consistente por longos períodos de operação. O SiC Fin é compatível com todos os projetos de reatores e pode ser fabricado sob medida em diâmetro, espessura e padrão de furo para atender às necessidades do cliente. A Semicorex pode oferecer projetos personalizados para otimizar o desempenho de variáveis ​​de processo, como vazão, geometria da câmara e temperatura.

Além de sua funcionalidade versátil, o SiC Fin possui durabilidade e longevidade excepcionais em comparação com outros materiais. É altamente resistente à oxidação, erosão plasmática e corrosão química, o que reduz a frequência de substituição de peças e diminui o tempo de inatividade do sistema. Além disso, a condutividade térmica do carboneto de silício permite a capacidade de dissipação de calor para gerenciar gradientes térmicos no dispositivo, evitando empenamentos ou rachaduras indesejadas durante ciclos rápidos de temperatura.

Semicorex usa recursos avançadoscerâmicacapacidades de processamento e revestimento CVD para fornecer a mais alta pureza e consistência do SiC Fin produzido. Cada SiC Fin também é inspecionado quanto à densidade, uniformidade da microestrutura e perfeição da superfície para garantir que atenda aos exigentes requisitos da indústria de semicondutores. Isso resulta em um componente que possui integridade mecânica e robustez para operação estável e de longo prazo em ambientes extremos.

O Semicorex SiC Fin é o resultado da ciência de materiais e tecnologia de engenharia de última geração. Ele não apenas produz fluxos eficazes de exaustão e líquido, mas também contribui para a limpeza e confiabilidade de todos os sistemas de epitaxia e gravação. Ele combina resistência mecânica, estabilidade térmica e longevidade à corrosão para fornecer uma experiência mais consistente para aplicações de processamento de semicondutores.