Tubo de forno de difusão SiC

Alta resistência à flexão: O tubo do forno de difusão Semicorex SiC possui uma resistência à flexão superior a 200MPa, garantindo desempenho mecânico excepcional e integridade estrutural sob condições de alta tensão típicas dos processos de fabricação de semicondutores.

Excelente resistência à oxidação: Esses tubos de forno de difusão de SiC exibem resistência à oxidação superior, a melhor entre todas as cerâmicas sem óxido. Esta característica garante estabilidade e desempenho a longo prazo em ambientes de alta temperatura, reduzindo o risco de degradação e prolongando a vida operacional dos tubos.

Excelente resistência à corrosão: A inércia química do tubo do forno de difusão de SiC oferece excelente resistência à corrosão, tornando esses tubos ideais para uso em ambientes químicos agressivos frequentemente encontrados no processamento de semicondutores.

Alta resistência ao desgaste: o tubo do forno de difusão de SiC é altamente resistente ao desgaste, o que é crucial para manter a estabilidade dimensional e reduzir a necessidade de manutenção durante períodos prolongados de uso em condições abrasivas.

Coeficiente de baixo atrito: O baixo coeficiente de atrito do tubo do forno de difusão de SiC reduz o desgaste dos tubos e dos wafers, garantindo uma operação suave e minimizando os riscos de contaminação durante o processamento de semicondutores.

Propriedades mecânicas superiores de alta temperatura: o tubo do forno de difusão de SiC demonstra as melhores propriedades mecânicas de alta temperatura entre os materiais cerâmicos conhecidos, incluindo excelente resistência e resistência à fluência. Isto o torna particularmente adequado para aplicações que exigem estabilidade de longo prazo em temperaturas elevadas.

Com revestimento CVD: O revestimento Semicorex Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC atinge um nível de pureza superior a 99,9995%, com teor de impurezas abaixo de 5 ppm e impurezas metálicas prejudiciais abaixo de 1 ppm. O processo de revestimento CVD garante que os tubos atendam aos rigorosos requisitos de estanqueidade a vácuo de 2-3Torr, essenciais para ambientes de fabricação de semicondutores de alta precisão.

Aplicação em fornos de difusão: Esses tubos de forno de difusão de SiC são projetados especificamente para uso em fornos de difusão, onde desempenham um papel crítico em processos de alta temperatura, como dopagem e oxidação. Suas propriedades avançadas de materiais garantem que eles possam suportar as condições exigentes desses processos, aumentando assim a eficiência e a confiabilidade da produção de semicondutores.