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Discos de desvio de gás revestidos de SiC

Discos de desvio de gás revestidos de SiC

Os discos de desvio de gás revestidos com SiC Semicorex são os componentes de grafite indispensáveis ​​aplicados no equipamento epitaxial semicondutor, projetados especialmente para regular o fluxo do gás de reação e promover a distribuição uniforme do gás dentro da câmara de reação. Escolha Semicorex, escolha as soluções ideais de desvio de gás para resultados epitaxiais de wafer de alta qualidade.

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Descrição do produto

Sendo um excelente exemplo de materiais avançados de classe semicondutora e tecnologias de fabricação de ponta, a SemicorexRevestido com SiCos discos de desvio de gás são fabricados com precisão a partir de grafite de alta pureza como suas matrizes com um revestimento denso de SiC por meio de deposição química de vapor. Os discos de desvio de gás são projetados principalmente para distribuir o gás de reação uniformemente pela superfície do wafer para garantir reações completas durante o processamento, facilitando assim a formação de filmes finos de cristal único consistentes e uniformes.


As vantagens dos discos de desvio de gás revestidos com SiC Semicorex

1.Alta pureza do material

A Semicorex mantém rigorosos padrões de qualidade de produto a partir de uma seleção cuidadosa de materiais. Graças a esse rigoroso controle de pureza da matéria-prima, os discos de desvio de gás revestidos com SiC Semicorex oferecem baixo teor de impurezas e apresentam excelente limpeza. Isso pode evitar significativamente que íons metálicos e outros contaminantes comprometam os processos epitaxiais de semicondutores.


2.Estabilidade térmica superior

Os componentes usados ​​nesses sistemas devem ter estabilidade térmica excepcional porque o equipamento epitaxial semicondutor normalmente opera em temperaturas acima de 1400°C. Essa excepcional estabilidade térmica pode garantir que os discos de desvio de gás revestidos com SiC Semicorex suportem as condições operacionais desafiadoras de alta temperatura e podem prevenir efetivamente a liberação de impurezas causada pela alta temperatura durante a operação, o que ajuda a garantir a qualidade e o rendimento dos wafers epitaxiais.


3. Notável resistência à corrosão em altas temperaturas

Matrizes de grafite desprotegidas são propensas à corrosão e à geração de partículas, razão pela qual os discos de desvio de gás são comumente tratados com um revestimento de carboneto de silício para aumentar sua resistência à corrosão. Cobertos com um revestimento denso de SiC, os discos de desvio de gás revestidos com SiC Semicorex oferecem excelente resistência à oxidação e à corrosão química, o que lhes permite funcionar de forma constante durante uma longa vida útil, mesmo sob condições operacionais corrosivas e de alta temperatura desafiadoras.


4. Capacidades de personalização flexíveis

A Semicorex está equipada com vários equipamentos de processamento avançados, como equipamentos de usinagem CNC, retificadoras de superfície e equipamentos de perfuração ultrassônica, oferecendo recursos de processamento experientes. A Semicorex é capaz de oferecer serviços de personalização flexíveis de acordo com os desenhos do cliente e adaptar as dimensões, tolerâncias, planicidade da superfície, diâmetros de furos e espaçamentos de furos de discos de desvio de gás revestidos de SiC para garantir compatibilidade perfeita com o equipamento epitaxial dos clientes.


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