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Mandril de wafer semicondutor

Mandril de wafer semicondutor

Os componentes avançados e revestidos de carboneto de silício de alta pureza da Semicorex são construídos para suportar ambientes extremos no processo de manuseio de wafers. Nosso Semiconductor Wafer Chuck tem uma boa vantagem de preço e cobre muitos dos mercados europeus e americanos. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

O mandril de wafer semicondutor ultraplano Semicorex é revestido com SiC de alta pureza para uso no processo de manuseio de wafer. Semiconductor Wafer Chuck por equipamento MOCVD O crescimento do composto tem alta resistência ao calor e à corrosão, que tem grande estabilidade em ambientes extremos e melhora o gerenciamento de rendimento para processamento de wafer semicondutor. As configurações de baixo contato superficial minimizam o risco de partículas no verso para aplicações sensíveis.


Parâmetros do mandril de wafer semicondutor

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura Cristalina

Fase β do FCC

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho do grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J kg-1 K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (TR 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)

430

Expansão Térmica (CTE)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características do semicondutor wafer chuck

- Revestimentos de carboneto de silício CVD para melhorar a vida útil.

- Capacidades ultraplanas

- Alta rigidez

- Baixa expansão térmica

- Extrema resistência ao desgaste




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