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Sistema de Gravação por Plasma ICP

O suporte revestido de SiC da Semicorex para o sistema de gravação por plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.

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Suporte de wafer para processo de gravação ICP

O Suporte de Wafer da Semicorex para Processo de Gravação ICP é a escolha perfeita para processos exigentes de manuseio de wafer e deposição de filmes finos. Nosso produto apresenta resistência superior ao calor e à corrosão, uniformidade térmica uniforme e padrões de fluxo de gás laminar ideais para resultados consistentes e confiáveis.

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Placa de gravação de silicone para aplicações de gravação PSS

A placa de gravação de silicone da Semicorex para aplicações de gravação PSS é um suporte de grafite ultrapuro e de alta qualidade, projetado especificamente para processos de crescimento epitaxial e manuseio de wafer. Nossa transportadora pode suportar ambientes hostis, altas temperaturas e limpeza química agressiva. A placa de ataque de silício para aplicações de ataque PSS tem excelentes propriedades de distribuição de calor, alta condutividade térmica e é econômica. Nossos produtos são amplamente utilizados em muitos mercados europeus e americanos, e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Você quer comprar Wafer-Etch-Carrier avançado e durável? Semicorex é definitivamente sua boa escolha. Somos conhecidos como um dos Wafer-Etch-Carrier fabricantes e fornecedores mais competitivos da China. Nós também fornecemos embalagem a granel. Você pode precisar de alguns serviços customizados para atender às reais necessidades de sua região, você pode nos deixar uma mensagem através das informações de contato na página da web. Sinceramente, damos boas-vindas a clientes novos e antigos para visitar nossa fábrica para consulta e negociação.