O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaNa Semicorex, projetamos a Bandeja transportadora de gravura PSS para LED especificamente para os ambientes hostis necessários para o crescimento epitaxial e processos de manuseio de wafer. Nosso transportador de grafite ultrapuro é ideal para fases de deposição de filmes finos como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas de panqueca ou satélite e processamento de manuseio de wafer, como corrosão. O suporte revestido de SiC tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Nossa bandeja de suporte de gravação PSS para LED é econômica e oferece uma boa vantagem de preço. Atendemos muitos mercados europeus e americanos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaA placa portadora de gravura PSS Semicorex para semicondutores é especialmente projetada para ambientes de limpeza química severa e de alta temperatura necessários para processos de crescimento epitaxial e manuseio de wafer. Nossa placa portadora de gravação PSS ultrapura para semicondutores foi projetada para suportar wafers durante as fases de deposição de filmes finos, como MOCVD e susceptores de epitaxia, panqueca ou plataformas de satélite. Nosso suporte revestido de SiC tem alta resistência ao calor e à corrosão, excelentes propriedades de distribuição de calor e alta condutividade térmica. Oferecemos soluções econômicas para nossos clientes e nossos produtos cobrem muitos mercados europeus e americanos. A Semicorex espera ser seu parceiro de longo prazo na China.
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