Chuck poroso a vácuo

O Chuck de vácuo poroso de semicorex representa uma solução de manuseio destinada a alcançar o posicionamento preciso e estável de bolachas durante todas as etapas do processamento de semicondutores. Este chuck a vácuo mantém excelente aderência para aplicações de manuseio e alinhamento de substrato, aumentando assim tanto a confiabilidade quanto o desempenho. As opções de material base - SUS430, liga de alumínio 6061, cerâmica densidade densa, granito e cerâmica de carboneto de silício - oferecem a flexibilidade do usuário para escolher o material ideal de acordo com os requisitos individuais em desempenho térmico, propriedades mecânicas ou peso.

Melhor escolha de material: a parte inferior do poroso chuck a vácuo pode ser alterada com diferentes materiais para atender a várias necessidades:

• SUS430: Uma opção barata que resiste a enferrujar bem para usos comuns.
• Liga de alumínio 6061: fornece uma mistura de força, peso leve e ótima trabalhabilidade, tornando -o bom para o manuseio regular de bolacha.
• Cerâmica densa de alumina (99% AL2O3): fornece excelente estabilidade térmica e alta dureza, adequada para aplicações de alta temperatura ou precisão.
• GRANITO: Conhecido por sua nivelamento e estabilidade excepcional, o granito fornece baixa expansão térmica, ideal para aplicações que requerem alta precisão.
• Cerâmica de carboneto de silício: conhecida por sua alta condutividade térmica, resistência química e durabilidade, o SiC é ideal para ambientes de alto desempenho, onde as condições extremas são encontradas.

Andição de alta precisão: o chuck poroso de vácuo SiC garante clandestinidade superior, com precisão variando com base no material utilizado. O ranking de material da precisão mais alta à mais baixa é:

Cerâmica de granito e carboneto de silício: ambos os materiais oferecem planicidade de alta precisão, garantindo a estabilidade da wafer, mesmo nos ambientes de processamento mais exigentes.

Alumina densa (99% AL2O3): um pouco menos de planicidade em comparação com granito e SiC, mas ainda oferece boa precisão para aplicações gerais de semicondutores.

Liga de alumínio 6061 e SUS430: Forneça precisão de planicidade ligeiramente mais baixa, mas ainda é altamente confiável para o manuseio de bolacha em aplicações menos exigentes.

Variações de peso para necessidades específicas: O Chuck poroso de vácuo SiC permite que os usuários escolham entre uma variedade de opções de materiais com base nos requisitos de peso:

Liga de alumínio 6061: a mais leve escolha de material, oferecendo manuseio e transporte fáceis.

Granito: um material de base mais pesado que fornece alta estabilidade e minimiza vibrações durante o processamento.

Cerâmica de carboneto de silício: tem um peso moderado, oferecendo um equilíbrio de durabilidade e condutividade térmica.

Cerâmica densa de alumina: a opção mais pesada, ideal para aplicações onde a estabilidade e a alta resistência térmica são priorizadas.

Alta durabilidade e desempenho: O Chuck poroso SiC a vácuo é projetado para um desempenho duradouro, capaz de suportar variações extremas de temperatura e o desgaste associado ao processamento de semicondutores. A variante de cerâmica de carboneto de silício é particularmente benéfica para ambientes de alta temperatura e quimicamente agressivos devido à sua resistência excepcional à expansão e corrosão térmica.

Soluções econômicas: com várias opções de materiais, o poroso SiC Vacuum Chuck fornece uma solução econômica que pode ser adaptada a diferentes orçamentos e requisitos de aplicação. Para aplicações gerais, a liga de alumínio e o SUS430 são econômicos e ainda oferecem desempenho satisfatório. Para ambientes mais exigentes, as opções de granito ou cerâmica SiC fornecem desempenho e durabilidade aprimorados.

Aplicações:

O poroso SiC Vacuum Chuck é usado principalmente na indústria de semicondutores para manuseio de wafer, inclusive em processos como:

• Cubos e corte de wafer
• Fabricação fotovoltaica
• Crescimento do epitaxia MOCVD e CVD
• Implante de íons
• Processos de oxidação e difusão

O poroso SiC Vacuum Chuck, da Semicorex, se destaca por sua precisão, versatilidade e durabilidade. Se você precisa de soluções leves para manuseio geral ou materiais avançados para processos de semicondutores de alto desempenho, nosso produto oferece uma ampla gama de opções para atender às suas necessidades. Fabricados com os padrões da mais alta qualidade, nossos arremessos de vácuo garantem um manuseio de bolas confiável e eficiente para várias aplicações, fornecendo resultados consistentes em processos padrão e especializados.

Para as indústrias onde a estabilidade e o manuseio precisos são cruciais, o poroso SiC a vácuo Chuck oferece uma solução ideal. Com sua seleção de materiais, alta precisão e durabilidade superior, é a escolha perfeita para uma ampla gama de processos de semicondutores.