Placa SiC porosa

A placa SiC porosa semicorex é um material de cerâmica de alto desempenho projetado para aplicações avançadas de fabricação de semicondutores e precisão. Projetado com uma estrutura porosa finamente controlada, esta placa oferece resistência mecânica excepcional, estabilidade térmica e resistência química, tornando -a uma escolha ideal para uso como umVacuum Chuckno processamento de semicondutores.

Processado por sinterização de precisão e formação de poros, a placa SiC porosa possui porosidade uniforme e permeabilidade otimizada do ar, garantindo assim adsorção segura e estável de bolachas finas, painéis de vidro e outros substratos delicados. A distribuição de tamanho de poro cuidadosamente controlada permitirá sucção eficaz de vácuo, mantendo seus constituintes estruturais unidos até o último átomo, praticamente impedindo a deformação ou dano para o material destinado a mais processamento: as bolachas.

Sua excelente condutividade térmica faz da placa SiC porosa um dos melhores candidatos à dissipação rápida do calor com distribuição uniforme da temperatura na superfície. Isso se torna importante em muitos tipos de processos de fabricação de semicondutores para manter a estabilidade em condições térmicas, que se relacionam diretamente com o rendimento e a qualidade do produto. Além disso, o carboneto de silício apresenta bem a resistência ao desgaste e um nível relativamente alto de dureza, dando uma vida mais longa para a placa, uma vez que o desgaste da superfície e a contaminação são atrasados ​​sobre o uso muito prolongado.

A inércia química é outra característica vital da placa SiC porosa. Ele exibe forte resistência a ácidos, álcalis e exposição ao plasma, tornando-o adequado para ambientes severos na fabricação de semicondutores, como gravação, depoimento e câmaras de processamento químico. A natureza não reativa do SiC impede interações químicas indesejadas, preservando a pureza dos materiais processados ​​e aumentando a confiabilidade da produção.

Além disso, a natureza leve da SIC porosa, combinada com suas propriedades mecânicas robustas, facilita o manuseio e a integração fáceis em máquinas de precisão. O baixo coeficiente de expansão térmica garante a estabilidade dimensional, mesmo sob flutuações extremas de temperatura, minimizando o risco de deformação ou desalinhamento durante a operação.

A placa SiC porosa pode ser personalizada para atender aos requisitos de aplicação específicos, incluindo variações de porosidade, espessura e acabamento da superfície. Técnicas avançadas de usinagem e polimento podem ser aplicadas para obter superfícies ultra-flat com rugosidade mínima, aumentando ainda mais seu desempenho como material de chuck a vácuo.

A placa de carboneto de silício poroso semicorex é um componente cerâmico altamente especializado que oferece uma combinação de alta resistência, excelente estabilidade térmica e química e resistência ao desgaste superior. Sua estrutura porosa única permite a sucção eficaz de vácuo, garantindo o manuseio seguro de wafer nas indústrias de semicondutores e precisão. Como resultado, é um material essencial para aplicações de alta precisão, onde o desempenho, a durabilidade e a confiabilidade são fundamentais.