O pó de carboneto de silício (SiC) tipo N Semicorex é um material de SiC dopado de alta pureza projetado especificamente para aplicações avançadas de crescimento de cristais. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
O pó de carboneto de silício (SiC) tipo N Semicorex é um material de SiC dopado de alta pureza projetado especificamente para aplicações avançadas de crescimento de cristais. Este pó de carboneto de silício tipo N é caracterizado por suas propriedades elétricas superiores e integridade estrutural, tornando-o uma escolha ideal para a produção de cristais de carboneto de silício usados em vários dispositivos semicondutores de alto desempenho.
O pó de carboneto de silício tipo N é dopado com nitrogênio (N), que introduz elétrons livres adicionais na rede cristalina de SiC, aumentando sua condutividade elétrica. Esta dopagem tipo N é crucial para aplicações que requerem propriedades eletrônicas precisas. O pó de carboneto de silício tipo N passa por rigorosos processos de purificação para atingir um alto nível de pureza, minimizando a presença de impurezas que podem afetar o processo de crescimento do cristal e o desempenho do produto final.
O pó de carboneto de silício tipo N Semicorex consiste em partículas finas e de tamanho uniforme que promovem o crescimento uniforme de cristais e melhoram a qualidade geral dos cristais de carboneto de silício.
Usado principalmente no crescimento de cristais de carboneto de silício, este pó de carboneto de silício tipo N é essencial na fabricação de dispositivos eletrônicos de alta potência, sensores de alta temperatura e vários componentes optoeletrônicos. Também é adequado para uso em pesquisa e desenvolvimento na indústria de semicondutores.
Características
Modelo | Pureza | Densidade de embalagem | D10 | D50 | D90 |
SiC-NS | >6N | <1,7g/cm3 | 100μm | 300μm | 500μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3g/cm3 | 500μm | 1000μm | 2.000μm |
SiC-NL | >6N | <1,3g/cm3 | 1000μm | 1500μm | 2500μm |
Aplicações:
Crescimento de cristais de carboneto de silício: usado como matéria-prima para o cultivo de cristais de SiC de alta qualidade.
Dispositivos semicondutores: Ideal para componentes eletrônicos de alta potência e alta frequência.
Eletrônicos de alta temperatura: Adequados para aplicações que exigem desempenho robusto sob condições extremas.
Optoeletrônica: Utilizada em dispositivos que requerem propriedades térmicas e elétricas excepcionais.