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Pó de carboneto de silício tipo N

Pó de carboneto de silício tipo N

O pó de carboneto de silício (SiC) tipo N Semicorex é um material de SiC dopado de alta pureza projetado especificamente para aplicações avançadas de crescimento de cristais. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

O pó de carboneto de silício (SiC) tipo N Semicorex é um material de SiC dopado de alta pureza projetado especificamente para aplicações avançadas de crescimento de cristais. Este pó de carboneto de silício tipo N é caracterizado por suas propriedades elétricas superiores e integridade estrutural, tornando-o uma escolha ideal para a produção de cristais de carboneto de silício usados ​​em vários dispositivos semicondutores de alto desempenho.

O pó de carboneto de silício tipo N é dopado com nitrogênio (N), que introduz elétrons livres adicionais na rede cristalina de SiC, aumentando sua condutividade elétrica. Esta dopagem tipo N é crucial para aplicações que requerem propriedades eletrônicas precisas. O pó de carboneto de silício tipo N passa por rigorosos processos de purificação para atingir um alto nível de pureza, minimizando a presença de impurezas que podem afetar o processo de crescimento do cristal e o desempenho do produto final.

O pó de carboneto de silício tipo N Semicorex consiste em partículas finas e de tamanho uniforme que promovem o crescimento uniforme de cristais e melhoram a qualidade geral dos cristais de carboneto de silício.

Usado principalmente no crescimento de cristais de carboneto de silício, este pó de carboneto de silício tipo N é essencial na fabricação de dispositivos eletrônicos de alta potência, sensores de alta temperatura e vários componentes optoeletrônicos. Também é adequado para uso em pesquisa e desenvolvimento na indústria de semicondutores.


Características

Modelo Pureza Densidade de embalagem D10 D50 D90
SiC-NS >6N <1,7g/cm3 100μm 300μm 500μm
SiC-N-M >6N <1,3g/cm3 500μm 1000μm 2.000μm
SiC-NL >6N <1,3g/cm3 1000μm 1500μm 2500μm



Aplicações:

Crescimento de cristais de carboneto de silício: usado como matéria-prima para o cultivo de cristais de SiC de alta qualidade.

Dispositivos semicondutores: Ideal para componentes eletrônicos de alta potência e alta frequência.

Eletrônicos de alta temperatura: Adequados para aplicações que exigem desempenho robusto sob condições extremas.

Optoeletrônica: Utilizada em dispositivos que requerem propriedades térmicas e elétricas excepcionais.







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