Mandris Microporosos de SiC

Para fornecer precisão e estabilidade superiores, bem como limpeza para processamento avançado de wafer, os mandris de SiC microporosos são construídos a partir de carboneto de silício de altíssima pureza e possuem uma estrutura microporosa (ou “microporos”) distribuída uniformemente, resultando em uma distribuição altamente uniforme de adsorção de vácuo em uma superfície de mandril totalmente utilizável. Esses mandris são projetados especificamente para atender às rigorosas demandas de fabricação de semicondutores, processamento de semicondutores compostos, sistemas microeletromecânicos (MEMS) e outras indústrias que exigem controle de precisão.

Excelente desempenho de mandris microporosos de SiC

O principal benefício dos mandris microporosos de SiC é a integração completa da distribuição de vácuo, possibilitada pelo controle da matriz microporosa dentro do próprio mandril, em vez de usar ranhuras e furos como os mandris a vácuo tradicionais. Ao utilizar uma estrutura microporosa, a pressão do vácuo é transmitida uniformemente por toda a superfície do mandril, proporcionando a estabilidade e uniformidade necessárias da força de retenção para minimizar a deflexão, danos nas bordas e concentração de tensão local, ajudando assim a evitar os riscos associados a wafers mais finos e nós de processo avançados.

A seleção deSiCcomo material para mandris microporosos de SiC é feito devido às suas excepcionais características mecânicas, térmicas e químicas. Os mandris microporosos de SiC também são projetados para serem excepcionalmente rígidos e resistentes ao desgaste, de modo que retenham seu valor

estabilidade profissional mesmo sob uso contínuo. Possuem coeficiente de expansão térmica muito baixo e condutividade térmica muito alta; assim, eles podem apoiar tarefas que envolvem mudanças rápidas de temperatura e aquecimento localizado ou exposição ao plasma, mantendo ao mesmo tempo o nivelamento e a precisão posicional do wafer durante todo o ciclo do processo.

A estabilidade química é uma vantagem adicional dos mandris Microporous SiC Semicorex. Uma das principais vantagens do carboneto de silício é a sua capacidade de resistir à exposição a gases nocivos (incluindo gases corrosivos, ácidos e álcalis) que normalmente existem em sistemas de plasma agressivos usados ​​para fabricação de semicondutores. O alto nível de inércia química fornecido pelos mandris de SiC microporosos Semicorex permite degradação mínima da superfície e geração de partículas quando em contato com vários processos, o que permite que o processamento em sala limpa seja conduzido sob limites muito rígidos de limpeza e aumenta o rendimento e a consistência do processo.

Os processos de design e fabricação da Semicorex estão focados em alcançar o mais alto grau possível de precisão e qualidade ao criar qualquer mandril de SiC microporoso. Planicidade total da superfície, paralelismo e rugosidade são obtidos com o mandril de SiC microporoso, e as ranhuras que normalmente existem em muitos outros tipos padrão de mandris estão ausentes da superfície do mandril de SiC microporoso, resultando em significativamente menos acúmulo de partículas e limpeza e manutenção muito mais fáceis do que a maioria dos mandris padrão. Isso aumenta a confiabilidade dos mandris microporosos de SiC para todas as aplicações sensíveis à contaminação.

Amplas aplicações

Os mandris de SiC microporosos Semicorex são produzidos em muitas configurações personalizáveis ​​para acomodar a ampla variedade de ferramentas de processo e aplicações utilizadas na fabricação de semicondutores. Várias configurações disponíveis incluem vários tipos de diâmetros, espessuras, níveis de porosidade, interfaces de vácuo e tipos de montagem. O mandril Microporous SiC Semicorex também foi projetado para funcionar com praticamente todos os materiais de substrato, incluindo silício, carboneto de silício, safira, nitreto de gálio (GaN) e vidro. Assim, o mandril de SiC microporoso Semicorex pode ser facilmente integrado em vários equipamentos OEM e plataformas de processo já em uso pelos clientes.

Os mandris de SiC microporosos Semicorex oferecem estabilidade e previsibilidade significativamente melhoradas em seu processo de fabricação, bem como maior tempo de atividade do equipamento. A adsorção de vácuo consistente em toda a peça garante o alinhamento adequado do wafer em todas as operações críticas, incluindo litografia, gravação, deposição, polimento e inspeção. A durabilidade superior e a resistência ao desgaste associadas ao SiC microporoso levam a taxas de substituição mais baixas e, portanto, a uma redução nas despesas de manutenção preventiva e nos custos gerais de vida associados a esses dispositivos.

Os mandris Microporous SiC Semicorex apresentam um método confiável e de alto desempenho para lidar com wafers de próxima geração. A combinação de distribuição uniforme de vácuo com estabilidade térmica e química superior, excelente integridade mecânica e capacidade de limpeza superior resulta em soluções de mandril a vácuo Semicorex que formam parte integrante do processo avançado de fabricação de semicondutores com consistência, confiança e confiabilidade.