Anel de entrada de gás para equipamentos semicondutores

O anel de entrada de gás Semicorex para equipamentos semicondutores é revestido com SiC, que é um revestimento de carboneto de silício (SiC) denso e resistente ao desgaste. Possui altas propriedades de resistência à corrosão e ao calor, bem como excelente condutividade térmica. Aplicamos SiC em camadas finas sobre o grafite usando o processo de deposição química de vapor (CVD).

Nosso anel de entrada de gás para equipamentos semicondutores é projetado para alcançar o melhor padrão de fluxo de gás laminar, garantindo a uniformidade do perfil térmico. Isso ajuda a evitar qualquer contaminação ou difusão de impurezas, garantindo crescimento epitaxial de alta qualidade no chip wafer.

Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nosso anel de entrada de gás para equipamentos semicondutores.

Parâmetros do anel de entrada de gás para equipamentos semicondutores

Características do anel de entrada de gás para equipamentos semicondutores

â Grafite revestido de SiC de alta pureza

Superior resistência ao calor e uniformidade térmica

Cristal de SiC fino revestido para uma superfície lisa

Alta durabilidade contra limpeza química

â O material é projetado para que não ocorram rachaduras e delaminação.