Efetor final para manuseio de wafer

Os efeitos finais Semicorex para manuseio de wafer são dimensionalmente precisos e termicamente estáveis para processamento de wafer. Somos fabricantes e fornecedores de elementos de revestimento de carboneto de silício há muitos anos. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem a maior parte dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Os efeitos finais Semicorex para manuseio de wafer são dimensionalmente precisos e termicamente estáveis, ao mesmo tempo que possuem um filme de revestimento CVD SiC suave e resistente à abrasão para manusear wafers com segurança sem danificar dispositivos ou produzir contaminação por partículas, o que pode mover wafers semicondutores entre posições em equipamentos de processamento de wafer e transportadores com precisão e eficiência. Nosso efetor final de revestimento de carboneto de silício (SiC) de alta pureza para manuseio de wafer oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme para espessura e resistência consistentes da camada epi e resistência química durável.

Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nosso efetor final para manuseio de wafer tem uma vantagem de preço e é exportado para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, fornecendo produtos de qualidade consistente e atendimento ao cliente excepcional.

Parâmetros do Efetor Final para Manuseio de Wafer

Principais especificações do revestimento CVD-SIC
Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina	Fase β do FCC
Densidade	g/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamanho do grão	μm	2~10
Pureza Química	%	99.99995
Capacidade de calor	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimação	℃	2700
Força Felexural	MPa (TR 4 pontos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C)	430
Expansão Térmica (CTE)	10-6K-1	4.5
Condutividade térmica	(W/mK)	300