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End Effector para Manuseio de Wafer

End Effector para Manuseio de Wafer

Os Efetores Finais Semicorex para Manuseio de Wafer são dimensionalmente precisos e termicamente estáveis ​​para o processamento de wafer. Há muitos anos que somos fabricantes e fornecedores de elementos de revestimento de carboneto de silício. Nossos produtos têm uma boa vantagem de preço e cobrem a maioria dos mercados europeu e americano. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Semicorex End Effector for Wafer Handling são dimensionalmente precisos e termicamente estáveis, ao mesmo tempo em que possuem um filme de revestimento CVD SiC suave e resistente à abrasão para manusear wafers com segurança sem danificar dispositivos ou produzir contaminação particulada, que pode mover wafers semicondutores entre posições em equipamentos de processamento de wafer e transportadores precisa e eficiente. Nosso End Effector de revestimento de carboneto de silício (SiC) de alta pureza para manuseio de wafer oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme para espessura e resistência consistentes da camada epi e resistência química durável.

Na Semicorex, nos concentramos em fornecer produtos de alta qualidade e econômicos aos nossos clientes. Nosso End Effector para Manuseio de Wafer tem uma vantagem de preço e é exportado para muitos mercados europeus e americanos. Nosso objetivo é ser seu parceiro de longo prazo, oferecendo produtos de qualidade consistente e atendimento excepcional ao cliente.


Parâmetros do End Effector para Manuseio de Wafer

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades do SiC-CVD

Estrutura de cristal

FCC fase β

Densidade

g/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamanho de grão

μm

2~10

Pureza Química

%

99.99995

Capacidade de calor

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura de Sublimação

2700

Força Felexural

MPa (RT 4 pontos)

415

Módulo de Young

Gpa (dobra de 4pt, 1300â)

430

Expansão Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Condutividade térmica

(W/mK)

300


Características do End Effector para Manuseio de Wafer

Revestimento SiC de alta pureza usado método CVD

Resistência ao calor superior e uniformidade térmica

Cristal de SiC fino revestido para uma superfície lisa

Alta durabilidade contra limpeza química

O material é projetado para que não ocorram rachaduras e delaminação.




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