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Remo cantilever SiC personalizado

Remo cantilever SiC personalizado

O remo cantilever de SiC personalizado Semicorex tornou-se um componente indispensável na indústria fotovoltaica, desempenhando um papel crítico no manuseio eficiente e preciso de wafers de silício durante processos de difusão em alta temperatura. A pá cantilever personalizada de SiC, meticulosamente projetada a partir de cerâmica de carboneto de silício (SiC) de alto desempenho, oferece uma combinação única de propriedades essenciais para manter a integridade do wafer, garantindo a uniformidade do processo e maximizando a produtividade em ambientes exigentes de forno de difusão.**

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Descrição do produto

O remo cantilever de SiC personalizado da Semicorex serve como o elo crítico entre o sistema de carregamento de wafer e o coração do forno de difusão, responsável pelo transporte de barcos de quartzo ou wafer de SiC carregados com wafers de silício para a zona de processamento de alta temperatura. Seu design e propriedades de materiais são meticulosamente otimizados para esta tarefa exigente:


Estrutura robusta em cantilever para transporte estável de wafer:O design em balanço, caracterizado por um braço rígido que se estende para dentro do forno, proporciona estabilidade excepcional e controle preciso sobre o movimento do wafer. Isso garante um transporte suave e sem vibrações, minimizando o risco de quebra ou desalinhamento do wafer durante a carga e descarga.


Alta capacidade de carga para processamento em lote eficiente:A resistência e rigidez inerentes à cerâmica SiC permitem que o Custom SiC Cantilever Paddle acomode cargas pesadas de wafers de silício, maximizando o rendimento de cada ciclo de difusão e contribuindo para maiores volumes de produção.


Controle dimensional preciso para integração perfeita: A pá cantilever personalizada de SiC é meticulosamente fabricada de acordo com especificações dimensionais precisas, garantindo um ajuste perfeito dentro do sistema de forno de difusão e facilitando a integração perfeita com robôs automatizados de manuseio de wafer.



A seleção de cerâmicas SiC, especificamenteCarboneto de silício ligado por reação (RBSiC)eCarboneto de Silício Sinterizado (SSiC), já que o material escolhido para o remo cantilever Custom SiC decorre de suas características de desempenho excepcionais em ambientes de alta temperatura:


Estabilidade inabalável em altas temperaturas: A pá cantilever Custom SiC apresenta excepcional resistência à deformação e fluência mesmo em temperaturas elevadas (até 1600°C) encontradas em fornos de difusão. Isso garante suporte consistente do wafer e evita flacidez ou flexão que poderia comprometer a uniformidade do wafer.


Resistência excepcional ao choque térmico:A capacidade de suportar rápidas transições de temperatura sem danos é crucial para manter a integridade do Custom SiC Cantilever Paddle durante incontáveis ​​ciclos de difusão. A cerâmica SiC é excelente nesse aspecto, minimizando o risco de rachaduras ou fraturas que poderiam levar a tempos de inatividade dispendiosos.


Baixa expansão térmica para alinhamento preciso:A expansão térmica mínima da cerâmica SiC garante que a pá cantilever Custom SiC mantenha sua estabilidade dimensional nas amplas faixas de temperatura experimentadas durante a operação. Isto é fundamental para manter o alinhamento preciso do wafer dentro do forno, garantindo aquecimento uniforme e perfis de difusão consistentes.



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