Susceptor Epi de silício monocristalino

O Epi Susceptor de silício monocristalino é um componente essencial projetado para processos de epitaxia Si-GaN, que pode ser adaptado a especificações e preferências individualizadas, fornecendo uma solução sob medida que se alinha perfeitamente com requisitos específicos. Quer isso implique modificações nas dimensões ou ajustes na espessura do revestimento, possuímos a capacidade de projetar e entregar um produto que acomoda diversos parâmetros de processo, otimizando assim o desempenho para aplicações específicas. O compromisso da Semicorex com a qualidade líder de mercado, aliado a considerações fiscais competitivas, cimenta nosso desejo de estabelecer parcerias no cumprimento de seus requisitos de transporte de wafers semicondutores.

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Descrição do produto

Os susceptores no processamento de crescimento epitaxial necessitam da capacidade de suportar temperaturas elevadas e de suportar procedimentos rigorosos de limpeza química. O Epi Susceptor de silício monocristalino foi meticulosamente projetado para atender especificamente a essas demandas exigentes encontradas em aplicações de equipamentos de epitaxia.

Esses susceptores possuem uma construção composta de grafite revestida com carboneto de silício (SiC) de alta pureza, que confere resistência incomparável ao calor, garantindo distribuição térmica uniforme para espessura e resistência consistentes da camada de epitaxia.

Além disso, o Epi Susceptor de silício monocristalino apresenta notável durabilidade contra agentes de limpeza químicos agressivos. A utilização do revestimento fino de cristal SiC contribui ainda mais para uma superfície lisa e imaculada, o que é de suma importância para um manuseio eficaz, à medida que os wafers imaculados entram em contato com o susceptor em vários pontos em toda a sua área de superfície.

A utilização do Epi Susceptor de Silício Monocristalino garante confiabilidade inabalável e vida útil prolongada, mitigando a necessidade de substituições frequentes e, subsequentemente, minimizando o tempo de inatividade e as despesas de manutenção. Sua construção robusta e capacidades operacionais excepcionais contribuem significativamente para maior eficiência do processo, aumentando, em última análise, a produtividade e a economia no âmbito das operações de fabricação de semicondutores.