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Disco Epitaxia Revestido com SiC

Disco Epitaxia Revestido com SiC

Existem extensas propriedades do Disco Epitaxy Revestido com SiC Semicorex que o tornam um componente indispensável na fabricação de semicondutores, onde a precisão, durabilidade e robustez dos equipamentos são fundamentais para o sucesso de dispositivos semicondutores de alta tecnologia. Nós da Semicorex nos dedicamos à fabricação e fornecimento de discos epitaxiais revestidos com SiC de alto desempenho que combinam qualidade com economia.**

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Descrição do produto

O Disco Epitaxy Revestido com SiC Semicorex apresenta uma série de vantagens incomparáveis ​​na indústria de semicondutores, que podem ser elaboradas da seguinte forma:


Baixo Coeficiente de Expansão Térmica: O Disco Epitaxy Revestido com SiC possui um coeficiente de expansão térmica notavelmente baixo, o que é crítico no processamento de semicondutores, onde a estabilidade dimensional é essencial. Este atributo garante que o Disco Epitaxy Revestido com SiC sofra expansão ou contração mínima sob variações de temperatura, mantendo a integridade da estrutura semicondutora durante processos de alta temperatura.


Resistência à oxidação em altas temperaturas: Projetado com notável resistência à oxidação, este disco epitaxia revestido com SiC mantém sua integridade estrutural em temperaturas elevadas, tornando-o um componente ideal para aplicações em processos de semicondutores de alta temperatura onde a estabilidade térmica é crucial.


Superfície densa e porosa fina: A superfície do Disco Epitaxy Revestido com SiC é caracterizada por sua densidade e porosidade fina, o que fornece uma textura de superfície ideal para aderir vários revestimentos e garante a remoção eficaz de material durante o processamento de wafer semicondutor sem danificar a superfície delicada.


Alta Dureza: O revestimento confere um alto nível de dureza ao disco de grafite, que é resistente a arranhões e desgaste, prolongando assim a vida útil do Disco Epitaxy Revestido com SiC e reduzindo a frequência de substituição em ambientes de fabricação de semicondutores.


Resistência a ácidos, bases, sais e reagentes orgânicos: O revestimento CVD SiC do SiC Coated Epitaxy Disc oferece excelente resistência a uma ampla gama de agentes corrosivos, incluindo ácidos, bases, sais e reagentes orgânicos, tornando-o adequado para uso em ambientes onde a exposição a produtos químicos é uma preocupação, aumentando assim a confiabilidade e a longevidade do equipamento.


Camada de superfície beta-SiC: A camada superficial SIC (carboneto de silício) do disco epitaxia revestido de SiC consiste em beta-SiC, que possui uma estrutura cristalina cúbica de face centrada (FCC). Essa estrutura cristalina contribui para as propriedades mecânicas e térmicas excepcionais do revestimento, oferecendo resistência e condutividade térmica superiores ao disco, o que é essencial para equipamentos de processamento de semicondutores.



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