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Estrutura de Barril para Reator Epitaxial Semicondutor

Estrutura de Barril para Reator Epitaxial Semicondutor

Com sua excepcional condutividade térmica e propriedades de distribuição de calor, a Estrutura Barril Semicorex para Reator Epitaxial Semicondutor é a escolha perfeita para uso em processos LPE e outras aplicações de fabricação de semicondutores. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

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Susceptor de crescimento de cristal LPE revestido com SiC

Susceptor de crescimento de cristal LPE revestido com SiC

Com seu alto ponto de fusão, resistência à oxidação e resistência à corrosão, o susceptor de crescimento de cristal LPE revestido com SiC Semicorex é a escolha ideal para uso em aplicações de crescimento de cristal único. Seu revestimento de carboneto de silício oferece excelentes propriedades de planicidade e distribuição de calor, tornando-o uma escolha ideal para ambientes de alta temperatura.

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Você quer comprar Graphite-Barrel-Susceptor-LPE avançado e durável? Semicorex é definitivamente sua boa escolha. Somos conhecidos como um dos Graphite-Barrel-Susceptor-LPE fabricantes e fornecedores mais competitivos da China. Nós também fornecemos embalagem a granel. Você pode precisar de alguns serviços customizados para atender às reais necessidades de sua região, você pode nos deixar uma mensagem através das informações de contato na página da web. Sinceramente, damos boas-vindas a clientes novos e antigos para visitar nossa fábrica para consulta e negociação.
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