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Produtos
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Chuck de vácuo de carboneto de silício
O mandril de vácuo de carboneto de silício de semicorex é uma solução de manuseio de bolas de alta desempenho criada a partir de carboneto poroso de silício. É especificamente projetado para adsorção a vácuo de bolachas de semicondutores durante processos críticos, como montagem (depilação), afinamento, desorganização, limpeza, cubos e recozimento térmico rápido (RTA). Escolha Semicorex para pureza de material incomparável, precisão dimensional e desempenho confiável em ambientes de semicondutores exigentes.*
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Aquecedor de haste de grafite
O aquecedor de haste de grafite semicorex é um elemento de aquecimento de alto desempenho projetado para geração uniforme de alta temperatura dentro de fornos de vácuo. Escolha a Semicorex para sua experiência em soluções de grafite com engenharia de precisão, oferecendo estabilidade térmica superior e desempenho duradouro, adaptado às suas necessidades industriais.*
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Haste de eletrodo de grafite
As hastes de eletrodo de grafite semicorex são componentes de grafite de alta pureza usados como elementos de aquecimento do núcleo nos fornos de vácuo. Escolha Semicorex para qualidade de material incomparável, usinagem de precisão e desempenho confiável em ambientes de vácuo de alta temperatura.*
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Armado de robô de alumina
O braço do robô de alumina semicorex é um componente cerâmico de alto desempenho projetado para manuseio preciso da bolacha na fabricação de semicondutores. Sua força superior, isolamento e estabilidade térmica o tornam ideal para exigir ambientes de automação de salas limpas.*
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Alumina cerâmica final efetor
O efetor final de cerâmica de alumina Semicorex é um componente de engenharia de precisão projetada especificamente para manuseio de wafer confiável e sem contaminação na fabricação de semicondutores e aplicações relacionadas.*
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Sic Chuck poroso
O Chuck SiC poroso de semicorex é um mandril de vácuo de cerâmica de alto desempenho, projetado para adsorção de bolas segura e uniforme no processamento de semicondutores. Sua estrutura micro-porosa projetada garante uma excelente distribuição de vácuo, tornando-a ideal para aplicações de precisão.*
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