Anéis CVD SiC sólidos

Sólido semicorexSiC CVDos anéis são comumente montados dentro das câmaras de reação dos equipamentos de gravação, circundando os mandris eletrostáticos para servir como barreira de processo e guia de energia. Eles podem concentrar o plasma dentro da câmara ao redor do wafer e evitar a difusão externa do plasma, fornecendo assim um campo de energia adequado para o processo de gravação preciso. Este campo de energia uniforme e estável pode efetivamente mitigar riscos como defeitos de wafer, desvio de processo e perda de rendimento de dispositivos semicondutores causados ​​pela distribuição desigual de energia e distorção de plasma na borda do wafer.

Excelentes vantagens materiais

Os anéis sólidos de SiC CVD Semicorex são fabricados a partir de SiC CVD de alta pureza, oferecendo excelentes vantagens de material para atender totalmente aos rigorosos requisitos de alta limpeza e alta resistência à corrosão em ambientes de gravação de semicondutores.

1. Alta pureza

A pureza dos anéis CVD SiC sólidos da Semicorex pode exceder 99,9999%, o que significa que os anéis estão quase livres de impurezas internas. Esta excepcional pureza de material evita grandemente a contaminação indesejada de wafers semicondutores e das câmaras de processo devido à liberação de impurezas durante os processos de gravação de semicondutores.

2. Alta resistência à corrosão

Semicorexanéis sólidos SiC CVDpodem manter a integridade estrutural e a estabilidade de desempenho mesmo quando expostos a ácidos fortes, álcalis e plasma devido à resistência superior à corrosão do SiC CVD, tornando-os as soluções ideais para ambientes de processamento de corrosão agressivos.

3. Desempenho confiável de gerenciamento térmico

SiC CVD apresenta alta condutividade térmica e coeficiente de expansão térmica mínimo, fazendo com que os anéis sólidos CVD SiC da Semicorex obtenham rápida dissipação de calor e retenham excelente estabilidade dimensional durante a operação.

4. Uniformidade de resistência excepcional

Os anéis sólidos CVD SiC Semicorex oferecem excepcional uniformidade de resistência com RRG <5%.

Faixas de resistividade: Baixa resolução. (<0,02 Ω·cm), resolução média. (0,2–25 Ω·cm), alta resolução. (>100 Ω·cm).

Controle de qualidade preciso

Os anéis sólidos CVD SiC da Semicorex são processados ​​e inspecionados sob padrões rigorosos para atender totalmente aos rigorosos requisitos de precisão e qualidade dos campos de semicondutores e microeletrônica.

Tratamento de superfície: A precisão do polimento é Ra <0,1µm; a precisão de moagem fina é Ra> 0,1 µm

A precisão do processamento é controlada dentro de ≤ 0,03 mm

Inspeção de qualidade: Os anéis CVD SiC sólidos Semicorex serão submetidos a medição dimensional, testes de resistividade e inspeção visual para garantir que o produto esteja livre de lascas, arranhões, rachaduras, manchas e outros defeitos.