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Deposição Epitaxial CVD em Reator Barril

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação o tornam a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.

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Você quer comprar Single-Wafer-Carrier avançado e durável? Semicorex é definitivamente sua boa escolha. Somos conhecidos como um dos Single-Wafer-Carrier fabricantes e fornecedores mais competitivos da China. Nós também fornecemos embalagem a granel. Você pode precisar de alguns serviços customizados para atender às reais necessidades de sua região, você pode nos deixar uma mensagem através das informações de contato na página da web. Sinceramente, damos boas-vindas a clientes novos e antigos para visitar nossa fábrica para consulta e negociação.