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Bandeja de gravação de plasma ICP

Bandeja de gravação de plasma ICP

A bandeja de gravação de plasma ICP da Semicorex foi projetada especificamente para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos transportadores fornecem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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Você quer comprar SiC-Coated-Graphite-Carrier-for-Epitaxial-Growth avançado e durável? Semicorex é definitivamente sua boa escolha. Somos conhecidos como um dos SiC-Coated-Graphite-Carrier-for-Epitaxial-Growth fabricantes e fornecedores mais competitivos da China. Nós também fornecemos embalagem a granel. Você pode precisar de alguns serviços customizados para atender às reais necessidades de sua região, você pode nos deixar uma mensagem através das informações de contato na página da web. Sinceramente, damos boas-vindas a clientes novos e antigos para visitar nossa fábrica para consulta e negociação.
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