Quando se trata de processos de manuseio de wafer, como epitaxia e MOCVD, o revestimento SiC de alta temperatura da Semicorex para câmaras de gravação a plasma é a melhor escolha. Nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável graças ao nosso fino revestimento de cristal SiC.
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