O suporte revestido de SiC da Semicorex para o sistema de gravação por plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal de SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
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