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Suporte para wafer de gravação ICP

Suporte para wafer de gravação ICP

O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer de alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em alta temperatura de até 1600°C, nossos carreadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.

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Você quer comprar High-Temperature-Etch-Tray avançado e durável? Semicorex é definitivamente sua boa escolha. Somos conhecidos como um dos High-Temperature-Etch-Tray fabricantes e fornecedores mais competitivos da China. Nós também fornecemos embalagem a granel. Você pode precisar de alguns serviços customizados para atender às reais necessidades de sua região, você pode nos deixar uma mensagem através das informações de contato na página da web. Sinceramente, damos boas-vindas a clientes novos e antigos para visitar nossa fábrica para consulta e negociação.
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