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Produtos
Semicorex é um fabricante e fornecedor profissional na China. Nossa fábrica fornece susceptor de barril, susceptor mocvd, barco wafer, etc. Design extremo, matérias-primas de qualidade, alto desempenho e preço competitivo são o que todo cliente deseja, e isso também é o que podemos oferecer. Tomamos alta qualidade, preço razoável e serviço perfeito.
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Susceptor de barril revestido de SiC para crescimento epitaxial de LPE
O susceptor de barril revestido de SiC Semicorex para crescimento epitaxial de LPE é um produto de alto desempenho projetado para fornecer desempenho consistente e confiável por um período prolongado. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade em chips de wafer. Sua customização e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
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Sistema Epi receptor de barril
Semicorex Barrel Susceptor Epi System é um produto de alta qualidade que oferece adesão de revestimento superior, alta pureza e resistência à oxidação em alta temperatura. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Seu custo-benefício e customização o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
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Sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE)
O sistema de reator de epitaxia de fase líquida (LPE) Semicorex é um produto inovador que oferece excelente desempenho térmico, perfil térmico uniforme e adesão de revestimento superior. Sua alta pureza, resistência à oxidação em alta temperatura e resistência à corrosão o tornam a escolha ideal para uso na indústria de semicondutores. Suas opções customizáveis e custo-benefício o tornam um produto altamente competitivo no mercado.
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Deposição epitaxial de CVD em reator de barril
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor é um produto altamente durável e confiável para o crescimento de camadas epixiais em chips de wafer. Sua resistência à oxidação em alta temperatura e alta pureza o tornam adequado para uso na indústria de semicondutores. Seu perfil térmico uniforme, padrão de fluxo de gás laminar e prevenção de contaminação fazem dele a escolha ideal para crescimento de camada epixial de alta qualidade.
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Deposição Epitaxial de Silício em Reator Barril
Se você precisa de um susceptor de grafite de alto desempenho para uso em aplicações de fabricação de semicondutores, o reator de deposição epitaxial de silício Semicorex em barril é a escolha ideal. Seu revestimento de SiC de alta pureza e condutividade térmica excepcional fornecem proteção superior e propriedades de distribuição de calor, tornando-o a escolha certa para desempenho confiável e consistente mesmo nos ambientes mais desafiadores.
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Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente
Se você precisa de um susceptor de grafite com condutividade térmica excepcional e propriedades de distribuição de calor, não procure além do Sistema Epi de Barril Aquecido Indutivamente Semicorex. Seu revestimento de SiC de alta pureza oferece proteção superior em ambientes corrosivos e de alta temperatura, tornando-o a escolha ideal para uso em aplicações de fabricação de semicondutores.
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