Camadas espessas de carboneto de silício (SiC) de alta pureza, normalmente superiores a 1 mm, são componentes críticos em diversas aplicações de alto valor, incluindo fabricação de semicondutores e tecnologias aeroespaciais. Este artigo investiga o processo de Deposição Química de Vapor (CVD) para a......
consulte Mais informaçãoO silício monocristalino e o silício policristalino têm, cada um, suas próprias vantagens exclusivas e cenários aplicáveis. O silício monocristalino é adequado para produtos eletrônicos e microeletrônica de alto desempenho devido às suas excelentes propriedades elétricas e mecânicas. O silício polic......
consulte Mais informaçãoNo processo de preparação do wafer, existem dois elos principais: um é a preparação do substrato e o outro é a implementação do processo epitaxial. O substrato, um wafer cuidadosamente feito de material semicondutor de cristal único, pode ser colocado diretamente no processo de fabricação do wafer c......
consulte Mais informaçãoA Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica versátil de deposição de filme fino amplamente empregada na indústria de semicondutores para a fabricação de filmes finos conformados de alta qualidade em vários substratos. Este processo envolve reações químicas de precursores gasosos sobre uma super......
consulte Mais informaçãoO material de silício é um material sólido com certas propriedades elétricas semicondutoras e estabilidade física e fornece suporte de substrato para o processo subsequente de fabricação de circuitos integrados. É um material chave para circuitos integrados baseados em silício. Mais de 95% dos dispo......
consulte Mais informaçãoEste artigo investiga o uso e a trajetória futura dos barcos de carboneto de silício (SiC) em relação aos barcos de quartzo na indústria de semicondutores, focando especificamente em suas aplicações na fabricação de células solares.
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