O crescimento do wafer epitaxial de nitreto de gálio (GaN) é um processo complexo, geralmente utilizando um método de duas etapas. Este método envolve vários estágios críticos, incluindo cozimento em alta temperatura, crescimento da camada tampão, recristalização e recozimento. Ao controlar meticulo......
consulte Mais informaçãoTanto os wafers epitaxiais quanto os difusos são materiais essenciais na fabricação de semicondutores, mas diferem significativamente em seus processos de fabricação e aplicações alvo. Este artigo investiga as principais distinções entre esses tipos de wafer.
consulte Mais informaçãoO substrato de carboneto de silício é um material semicondutor composto de cristal único composto por dois elementos, carbono e silício. Possui as características de grande bandgap, alta condutividade térmica, alta intensidade de campo de ruptura crítica e alta taxa de deriva de saturação de elétron......
consulte Mais informaçãoDentro da cadeia industrial de carboneto de silício (SiC), os fornecedores de substratos detêm uma influência significativa, principalmente devido à distribuição de valor. Os substratos de SiC representam 47% do valor total, seguidos pelas camadas epitaxiais com 23%, enquanto o design e a fabricação......
consulte Mais informaçãoOs MOSFETs de SiC são transistores que oferecem alta densidade de potência, maior eficiência e baixas taxas de falha em altas temperaturas. Essas vantagens dos MOSFETs de SiC trazem inúmeros benefícios aos veículos elétricos (EVs), incluindo maior autonomia de condução, carregamento mais rápido e ve......
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