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Notícias da indústria
Elementos de aquecimento de carboneto de silício
No mundo do aquecimento de alta temperatura, é fundamental alcançar precisão e confiabilidade em condições extremas. Para enfrentar esses desafios, materiais e designs inovadores foram desenvolvidos para ultrapassar os limites do que é possível. Um desses avanços é o elemento de aquecimento de grafi......
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O impacto da temperatura nos revestimentos CVD-SiC
A Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica versátil para produzir revestimentos de alta qualidade com diversas aplicações em indústrias como aeroespacial, eletrônica e ciência de materiais. Os revestimentos CVD-SiC são conhecidos por suas propriedades excepcionais, incluindo resistência a alta......
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Revestimento TaC com método CVD
O revestimento de carboneto de tântalo é um importante material estrutural de alta resistência, resistente à corrosão e quimicamente estável para altas temperaturas, com ponto de fusão de até 4273 °C, um dos vários compostos com maior resistência à temperatura. Possui excelentes propriedades mecânic......
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Métodos de crescimento de cristais de AlN
AlN, como material semicondutor de terceira geração, não é apenas um importante material de luz azul e luz ultravioleta, mas também um importante material de embalagem, isolamento dielétrico e material de isolamento para dispositivos eletrônicos e circuitos integrados, especialmente adequado para di......
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Cadinho de revestimento TaC para crescimento de cristais de AlN
A terceira geração de materiais semicondutores AlN pertence ao semicondutor bandgap direto, sua largura de banda de 6,2 eV, com alta condutividade térmica, resistividade, intensidade de campo de ruptura, além de excelente estabilidade química e térmica, não é apenas uma importante luz azul, materiai......
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Equipamento LPE
No domínio da fabricação de dispositivos semicondutores, o controle preciso do crescimento do cristal é fundamental para obter dispositivos confiáveis e de alta qualidade. Uma técnica que tem desempenhado um papel fundamental neste domínio é a Epitaxia em Fase Líquida (LPE).
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