Tubos de forno para LPCVD

O processo LPCVD é um processo de deposição de filme fino realizado sob condições de vácuo de baixa pressão (normalmente variando de 0,1 a 1 Torr). Essas condições operacionais de vácuo de baixa pressão podem ajudar a promover a difusão uniforme de gases precursores através da superfície do wafer, tornando-o ideal para a deposição precisa de materiais, incluindo Si₃N₄, poli-Si, SiO₂, PSG e certos filmes metálicos, como tungstênio.

Tubos de fornosão os componentes essenciais para LPCVD, que servem como câmaras de criação estáveis ​​para processamento de wafer LPCVD e contribuem para excelente uniformidade de filme, excepcional cobertura de etapas e alta qualidade de filme de wafers semicondutores.

As vantagens dos tubos de forno Semicorex para LPCVD

1. Desempenho de vedação confiável

Os tubos do forno Semicorex para LPCVD são fabricados com tecnologia de impressão 3D, apresentando uma estrutura integral e contínua. Esta estrutura integral livre de fraquezas evita os riscos de costuras e vazamentos associados aos processos tradicionais de soldagem ou montagem, garantindo uma melhor vedação do processo.  Os tubos de forno Semicorex para LPCVD são particularmente adequados para processos LPCVD de baixa pressão e alta temperatura, o que pode evitar significativamente o vazamento de gás do processo e a intrusão de ar externo.

2.Excelentes propriedades térmicas

Fabricados a partir de matérias-primas semicondutoras de alta qualidade, os tubos do forno Semicorex para o LPCVD apresentam alta condutividade térmica e excelente resistência ao choque térmico. Essas excelentes propriedades térmicas fazem com que os tubos do forno Semicorex para o LPCVD operem de forma estável em temperaturas que variam de 600 a 1100°C e forneçam distribuição uniforme de temperatura para processamento térmico de wafer de alta qualidade.

3. Controle rigoroso de limpeza

A Semicorex controla a limpeza dos tubos do forno desde a fase de seleção do material. O uso de matérias-primas de alta pureza confere aos tubos do forno Semicorex para LPCVD um baixo teor de impurezas incomparável. O nível de impureza do material da matriz é controlado abaixo de 100 PPM e o material de revestimento CVD SiC é mantido abaixo de 1 PPM. Além disso, cada tubo do forno passa por rigorosa inspeção de limpeza antes da entrega para evitar contaminação por impurezas durante o processo LPCVD.

4. Proteção de revestimento uniforme e densa

Através da deposição química de vapor, os tubos do forno Semicorex para LPCVD são firmemente cobertos com um revestimento de SiC denso e uniforme. EssesRevestimentos CVD SiCexibem forte adesão, o que evita efetivamente os riscos de descascamento do revestimento e degradação dos componentes, mesmo quando expostos a condições corrosivas e de alta temperatura.