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Tubos de forno revestidos com SiC CVD

Tubos de forno revestidos com SiC CVD

Os tubos de forno revestidos com SiC Semicorex CVD são componentes tubulares de alta qualidade fabricados especificamente para o processamento de semicondutores em alta temperatura, como oxidação, difusão e recozimento de wafers semicondutores. Aproveitando tecnologias de processamento avançadas e experiência de fabricação madura, a Semicorex está comprometida em fornecer tubos de forno revestidos com SiC CVD usinados com precisão com qualidade líder de mercado para nossos valiosos clientes.

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Descrição do produto

Semicorex CVD revestido com SiCtubos de fornosão tubos de processo de grande diâmetro que fornecem uma câmara de reação estável para tratamento em alta temperatura de wafer semicondutor. Eles são feitos para operar em atmosferas contendo oxigênio (gás reagente), nitrogênio (gás protetor) e pequenas quantidades de cloreto de hidrogênio, com temperatura operacional estável em torno de 1250 graus Celsius.


CVD SiC-coated furnace tubes

As vantagens dos tubos de forno revestidos com SiC Semicorex CVD


1. Tecnologia de moldagem avançada e fabricação de personalização flexível

Formada através de tecnologia de impressão 3D, SemicorexSiC CVDOs tubos do forno revestidos apresentam uma estrutura cerâmica integral e contínua, sem áreas fracas. Esta tecnologia de moldagem garante uma vedação excepcional à prova de gases, o que evita eficazmente os contaminantes externos e mantém a temperatura, a pressão e os ambientes atmosféricos necessários para o processamento do wafer semicondutor.

Além disso, a tecnologia de impressão 3D também suporta a produção de formas complexas e o controle dimensional preciso. A produção personalizada está disponível para diâmetro, comprimento, espessura de parede e tolerâncias de acordo com vários requisitos para garantir total compatibilidade com os fornos verticais ou horizontais dos clientes.


2. Seleção meticulosa de materiais e controle de limpeza

Os tubos de forno revestidos com SiC Semicorex CVD são fabricados com material de alta pureza de grau semicondutor cuidadosamente selecionado. O teor de impurezas da sua matriz é controlado abaixo de 300 PPM e o teor de impurezas do revestimento CVD SiC é limitado a menos de 5 PPM. Este rigoroso controle de pureza reduz significativamente a contaminação do wafer causada pela precipitação de impurezas metálicas sob condições operacionais de alta temperatura, o que melhora muito o rendimento e o desempenho dos dispositivos semicondutores finais. Além disso, o uso do revestimento CVD SiC aumenta a resistência a altas temperaturas, a resistência à corrosão química e a estabilidade térmica dos tubos de forno revestidos com CVD SiC da Semicorex, prolongando significativamente sua vida útil sob condições operacionais adversas.


Apresentando tantas vantagens, os tubos de forno revestidos com SiC Semicorex CVD são capazes de fornecer um espaço de reação estável, adequado e ultralimpo para processamento de wafer semicondutor. A distribuição consistente de temperatura e a atmosfera estável de gás dentro dos fornos, possibilitadas pelos tubos de forno revestidos com SiC Semicorex CVD, ajudam a obter difusão de dopagem, oxidação térmica, recozimento e deposição de filmes finos mais precisas.

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