Grafite ultrafino com alta porosidade

Adesão superior de partículas superficiais e excelentes características antipoeira: O grafite ultrafino Semicorex com alta porosidade exibe excepcional adesão de partículas superficiais, garantindo geração mínima de poeira e mantendo um ambiente de trabalho limpo, o que é crucial para aplicações sensíveis, como fabricação de semicondutores.

Tolerância a altas temperaturas: o grafite ultrafino com alta porosidade pode suportar temperaturas extremas de até 2.500°C, tornando-o adequado para processos de alta temperatura e ambientes onde materiais convencionais falhariam.

Alta porosidade de até 65%: A alta porosidade da grafite porosa permite um fluxo eficiente de gases e fluidos, possibilitando melhor transferência de massa e dissipação de calor em diversas aplicações.

Grafite porosa ultrafina com excelente usinabilidade: a grafite ultrafina com alta porosidade pode ser fabricada em folhas ultrafinas de até 1,5 mm, mantendo alta porosidade, proporcionando flexibilidade no design e na aplicação.

Usinabilidade para formas cilíndricas de paredes ultrafinas: o grafite ultrafino com alta porosidade pode ser usinado em formas cilíndricas de paredes ultrafinas com espessuras de parede de ≤1mm, oferecendo versatilidade no design e funcionalidade dos componentes.

Excelentes propriedades isolantes e consistência de lote: o grafite ultrafino com alta porosidade demonstra excelentes características de isolamento e desempenho consistente lote a lote, garantindo resultados confiáveis ​​e reprodutíveis em aplicações críticas.

Material de grafite poroso ultrapuro: o grafite ultrafino com alta porosidade está disponível em formas ultrapuras, alcançando altos níveis de pureza que são essenciais para aplicações exigentes, como a fabricação de semicondutores.

Alta Resistência: Apesar de sua natureza porosa, o Grafite Ultrafino com Alta Porosidade apresenta uma resistência impressionante, tornando-o adequado para componentes estruturais e aplicações de suporte de carga.

Aplicações na fabricação de semicondutores:

A grafite ultrafina com alta porosidade é utilizada principalmente na indústria de semicondutores, particularmente no novo processo de transferência de massa. Este processo emprega um novo campo térmico para transferência de massa em passagem única, melhorando significativamente a eficiência da transferência e mantendo uma taxa constante, reduzindo assim o impacto da recristalização (evitando a transferência de massa em passagem dupla) e minimizando efetivamente a microtubulação ou outros defeitos cristalinos relacionados. Além disso, a grafite porosa ajuda a equilibrar os componentes da fase gasosa, isolar vestígios de impurezas, ajustar as temperaturas locais e reduzir o encapsulamento físico das partículas. Ao satisfazer os requisitos de usabilidade do cristal, a grafite porosa permite um aumento substancial na espessura do cristal, tornando-se uma tecnologia chave para enfrentar o desafio do crescimento de cristais mais espessos.