Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon é um componente especializado projetado para processos epitaxiais de alto desempenho na fabricação de semicondutores. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
O Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon é um componente projetado especificamente sob medida para alcançar processos epitaxiais de alta eficiência no domínio da produção de semicondutores. A peça TaC Coating Upper Halfmoon é projetada para se encaixar perfeitamente em reatores epitaxiais, proporcionando durabilidade e estabilidade excepcionais sob condições extremas.
O revestimento TaC oferece excelente resistência a altas temperaturas, tornando o revestimento TaC Upper Halfmoon ideal para ambientes térmicos exigentes de processos epitaxiais. Isso garante desempenho consistente e longevidade, reduzindo a frequência de substituições e o tempo de inatividade. O revestimento TaC Upper Halfmoon pode suportar gases corrosivos e produtos químicos comumente usados no crescimento epitaxial, protegendo a integridade do componente e mantendo a pureza do processo.
O revestimento TaC suave e uniforme melhora a qualidade das camadas epitaxiais, minimizando defeitos e impurezas. Isto contribui para taxas de rendimento mais elevadas e propriedades eletrônicas superiores dos dispositivos semicondutores. A combinação de resistência térmica e química prolonga a vida operacional do TaC Coating Upper Halfmoon, fornecendo uma solução econômica para manter alto rendimento e eficiência na fabricação de semicondutores.
Aplicações:
Processos de Deposição Química de Vapor (CVD) em Alta Temperatura
Epitaxia de carboneto de silício (SiC) e nitreto de gálio (GaN)
Especificações Técnicas:
Material: Revestimento de carboneto de tântalo (TaC)
Faixa de temperatura: Até 2200°C
Resistência Química: Excelente contra HF, HCl e outros gases corrosivos
Dimensões: personalizáveis para modelos específicos de reatores
Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon é um componente essencial para obter camadas epitaxiais de alta qualidade com maior eficiência e riscos de contaminação reduzidos. Suas propriedades avançadas de material e engenharia precisa fazem dele um ativo valioso na indústria de semicondutores, apoiando a produção de dispositivos eletrônicos de próxima geração.