Anel de vedação revestido com TaC

O anel de vedação revestido com TaC Semicorex exibe excelente inércia a uma ampla gama de gases corrosivos e produtos químicos empregados em processos de semicondutores, incluindo produtos químicos de gravação a plasma (por exemplo, flúor, cloro, bromo), dopantes (por exemplo, boro, fósforo, arsênico) e agressivos agentes de limpeza. Esta inércia evita a degradação da vedação e a contaminação de câmaras de processo sensíveis.

E com um ponto de fusão superior a 3.800°C, o anel de vedação revestido com TaC mantém sua integridade estrutural e resistência mecânica nas temperaturas elevadas encontradas durante o processamento do wafer. Isso garante um desempenho de vedação confiável durante processos de recozimento, deposição e gravação em alta temperatura.

A extrema dureza e o baixo coeficiente de atrito do anel de vedação revestido com TaC proporcionam excepcional resistência ao desgaste, arranhões e abrasão. Isto é crítico em aplicações de vedação dinâmica, onde movimentos repetidos ou contato com wafers e outros componentes podem levar à geração de partículas e falha na vedação.

O anel de vedação revestido com TaC apresenta taxas de liberação de gases muito baixas, mesmo em temperaturas elevadas, tornando-o ideal para aplicações de alto vácuo. Isso garante a pureza do processo e evita a deposição de contaminantes indesejados em superfícies sensíveis de wafers.

Benefícios específicos em aplicações de semicondutores:

Vida útil prolongada do selo:O anel de vedação revestido com TaC aumenta significativamente a vida útil da vedação, proporcionando resistência superior ao ataque químico, à degradação térmica e ao desgaste mecânico. Isso reduz a frequência de substituições de vedações, minimizando o tempo de inatividade e os custos de manutenção.

Melhor rendimento do processo e qualidade do wafer:A natureza inerte do anel de vedação revestido com TaC minimiza a geração de partículas e a contaminação, levando a maiores rendimentos do processo e melhor qualidade do wafer. Isto é fundamental para a produção de dispositivos semicondutores de alto desempenho com tolerâncias rigorosas a defeitos.

Tempo de atividade e produtividade aprimorados do equipamento:Vida útil mais longa da vedação e requisitos de manutenção reduzidos contribuem para aumentar o tempo de atividade do equipamento e a produtividade geral. Isto é crucial para maximizar a produção e atender às demandas da fabricação de semicondutores em alto volume.