Susceptores de wafer de grafite revestido com TaC

Com o avanço contínuo dos modernos processos de fabricação de semicondutores, os requisitos para wafers epitaxiais em termos de uniformidade do filme, qualidade cristalográfica e estabilidade do processo tornaram-se cada vez mais rigorosos. Por esta razão, o uso de materiais de alto desempenho e duráveisSusceptores de wafer de grafite revestido com TaCno processo de produção é significativo para garantir deposição estável e crescimento epitaxial de alta qualidade.

As vantagens dos susceptores de wafer de grafite revestidos com Semicorex TaC

1. As excelentes seleções de materiais

(1) Material de matriz

Semicorex usou premium de alta purezagrafitecomo a matriz de susceptores de wafer, que oferece condutividade térmica superior, resistência a altas temperaturas, bem como resistência mecânica e dureza. Seu coeficiente de expansão térmica é altamente compatível com o do revestimento TaC, garantindo efetivamente uma adesão firme e evitando que o revestimento descasque ou lasque.

(2) Material de revestimento

O carboneto de tântalo é um material de alto desempenho com ponto de fusão extremamente alto (aproximadamente 3880 ℃), excelente condutividade térmica, estabilidade química superior e excelente resistência mecânica. Os parâmetros de desempenho específicos são os seguintes:

2. Desempenho excepcional de revestimento

Semicorex emprega tecnologia CVD de última geração para aderir de maneira uniforme e firme aoRevestimento TaCà matriz de grafite, reduzindo efetivamente o risco de rachaduras ou descascamento do revestimento causado por altas temperaturas e condições operacionais de corrosão química. Além disso, a tecnologia de processamento de precisão da Semicorex atinge planicidade de superfície em nível nanométrico para susceptores de wafer de grafite revestidos com TaC, e suas tolerâncias de revestimento são controladas em nível micrométrico, fornecendo plataformas ideais para deposição epitaxial de wafer.

3. Nível de limpeza de grau semicondutor

As matrizes de grafite não podem ser usadas diretamente em processos como Epitaxia por Feixe Molecular (MBE), Deposição Química de Vapor (CVD) e Deposição Química de Vapor Metal-Orgânico (MOCVD). A aplicação de revestimentos TaC evita efetivamente a contaminação do wafer causada pela reação entre a matriz de grafite e os produtos químicos, evitando assim o impacto no desempenho de deposição final. Para garantir a limpeza do nível de semicondutores dentro da câmara de reação, cada susceptor de wafer de grafite revestido com TaC Semicorex que precisa estar em contato direto com wafers semicondutores passa por limpeza ultrassônica antes de ser embalado a vácuo.