Em um aparelho de plasma para gravação e deposição química de vapor (CVD) de materiais em wafers, os gases de processo são fornecidos para uma câmara de processo através de um chuveiro de grafite revestido com CVD SiC. A Semicorex está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
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