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Produtos
Semicorex é um fabricante e fornecedor profissional na China. Nossa fábrica fornece susceptor de barril, susceptor mocvd, barco wafer, etc. Design extremo, matérias-primas de qualidade, alto desempenho e preço competitivo são o que todo cliente deseja, e isso também é o que podemos oferecer. Tomamos alta qualidade, preço razoável e serviço perfeito.
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Componente ICP revestido com SiC
O componente ICP revestido com SiC da Semicorex foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com um fino revestimento de cristal SiC, nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
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Revestimento SiC de alta temperatura para câmaras de gravação de plasma
Quando se trata de processos de manuseio de wafer, como epitaxia e MOCVD, o revestimento SiC de alta temperatura para câmaras de gravação a plasma da Semicorex é a melhor escolha. Nossos transportadores oferecem resistência superior ao calor, uniformidade térmica e resistência química durável graças ao nosso fino revestimento de cristal SiC.
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Bandeja de gravação de plasma ICP
A bandeja de gravação de plasma ICP da Semicorex foi projetada especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600 °C, nossos transportadores fornecem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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Sistema de gravação de plasma ICP
O transportador revestido com SiC da Semicorex para sistema de gravação de plasma ICP é uma solução confiável e econômica para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Nossos transportadores apresentam um fino revestimento de cristal SiC que oferece resistência superior ao calor, uniformidade térmica uniforme e resistência química durável.
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Plasma Acoplado Indutivamente (ICP)
O susceptor revestido de carboneto de silício da Semicorex para plasma indutivamente acoplado (ICP) foi projetado especificamente para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600°C, nossos transportadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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Suporte de wafer de gravação ICP
O suporte de wafer de gravação ICP da Semicorex é a solução perfeita para processos de manuseio de wafer em alta temperatura, como epitaxia e MOCVD. Com uma resistência estável à oxidação em altas temperaturas de até 1.600°C, nossos transportadores garantem perfis térmicos uniformes, padrões de fluxo de gás laminar e evitam contaminação ou difusão de impurezas.
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