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Notícias da indústria
Óxido de gálio/β-Ga2O3 de semicondutores de 4ª geração
A primeira geração de materiais semicondutores é representada principalmente pelo silício (Si) e pelo germânio (Ge), que começaram a crescer na década de 1950. O germânio era dominante nos primeiros dias e era usado principalmente em transistores e fotodetectores de baixa tensão, baixa frequência e ......
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Crescimento epitaxial livre de defeitos e luxações desajustadas
O crescimento epitaxial livre de defeitos ocorre quando uma rede cristalina tem constantes de rede quase idênticas a outra. O crescimento acontece quando os locais de rede das duas redes na região de interface são aproximadamente correspondidos, o que é possível com uma pequena incompatibilidade de ......
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Processo de oxidação
A etapa mais básica de todos os processos é o processo de oxidação. O processo de oxidação consiste em colocar a pastilha de silício em uma atmosfera de oxidantes, como oxigênio ou vapor de água para tratamento térmico de alta temperatura (800 ~ 1200 ℃), e uma reação química ocorre na superfície da ......
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Por que a epitaxia de nitreto de glium (GaN) não cresce em um substrato de GaN?
O crescimento da epitaxia GaN no substrato GaN apresenta um desafio único, apesar das propriedades superiores do material quando comparado ao silício. A epitaxia GaN oferece vantagens significativas em termos de largura de banda, condutividade térmica e campo elétrico de ruptura em relação aos mater......
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